高分子直接グラフトナノ粒子

開放特許情報番号
L2011005403
開放特許情報登録日
2011/10/21
最新更新日
2014/7/31

基本情報

出願番号 特願2010-029245
出願日 2010/2/12
出願人 国立大学法人東北大学
公開番号 特開2011-162718
公開日 2011/8/25
登録番号 特許第5540332号
特許権者 国立大学法人東北大学
発明の名称 高分子直接グラフトナノ粒子
技術分野 有機材料、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 高分子直接グラフトナノ粒子、無機ナノ粒子・高分子複合材料
目的 近年、無機-有機複合材料が注目されており、その一つとして無機ナノ粒子-高分子複合材料が開発されている。この材料は、修飾剤を介して無機ナノ粒子の表面に高分子材料を結合させているが、多段階操作となる点や、最終的に得られる粒子において修飾剤が不純物となる点が問題となる。そこで、修飾剤を用いない簡便な方法で製造することが可能な無機ナノ粒子・高分子複合材料、及びその製造方法を提供する。
効果 この方法によれば、修飾剤を用いない簡便な方法で無機ナノ粒子の表面に高分子がグラフト重合している無機ナノ粒子-高分子複合材料を製造できる。粉体状の無機ナノ粒子を原料とし、高分子が直接グラフト重合した粒子を作製するため、セラミックスナノ粒子の作成法に依存することなく、高分子をグラフトできる。また、この無機ナノ粒子-高分子複合材料は、比較的表面を操作したナノ粒子を作製するのに有用な液相法で作製された粒子よりも、高純度の粒子を高分子とハイブリッド化できるため、機能面においても有利である。
技術概要
この無機ナノ粒子-高分子複合材料は、金属酸化物、金属窒化物又は窒化物セラミックスからなる無機ナノ粒子の表面に高分子がグラフト重合してなる。好ましくは、無機ナノ粒子の表面に導入された重合開始点から、高分子が修飾剤を介さずにグラフト重合している。無機ナノ粒子-高分子複合材料の粒径は、好ましくは、3nmから10000nmである。この無機ナノ粒子-高分子複合材料の製造は、Al↓2O↓3、CeO↓2、CoO、Co↓3O↓4、Eu↓2O↓3、Fe↓2O↓3、Fe↓3O↓4、Gd↓2O↓3、In↓2O↓3、NiO、TiO↓2、Y↓2O↓3、ZnO、ZrO↓2、BaTiO↓3、AlN、TiN、BNといった無機ナノ粒子の表面にラジカル重合開始点を持たせる処理を行い、次いでこの無機ナノ粒子の表面に、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリヒドロキシエチルメタクリレート、又はポリ(N-イソプロピルアクリルアミド) といった高分子をグラフト重合させることにより製造される。図は、高分子直接グラフトナノ粒子作成法を示す。
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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