金微粒子の製造方法、金微粒子、レーザアブレーション装置、それに用いられる収集部材及び微粒子の製造方法

開放特許情報番号
L2011005228
開放特許情報登録日
2011/9/30
最新更新日
2014/2/25

基本情報

出願番号 特願2009-260846
出願日 2009/11/16
出願人 国立大学法人広島大学
公開番号 特開2011-105981
公開日 2011/6/2
登録番号 特許第5432675号
特許権者 国立大学法人広島大学
発明の名称 金微粒子の製造方法、金微粒子、レーザアブレーション装置、それに用いられる収集部材及び微粒子の製造方法
技術分野 金属材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 、レーザアブレーションを利用した金微粒子の製造方法、金微粒子収集部材をチャンバ内に配置したレーザアブレーション装置
目的 レーザアブレーションにより粒径30nm程度の小型の金微粒子や、粒径500nm程度の大型の金微粒子の得られることは周知である。金微粒子のうち、粒径350nm以上の大型の金微粒子は、高感度の分析試薬等に利用できるが、大型の金微粒子を多数生成できる方法は知られていない。また、レーザアブレーションにより生成された微粒子はチャンバ内の基板上に堆積するが、微粒子は基板上に散在するため収集しにくい。そこで、大型の金微粒子を生成しやすい金微粒子の製造方法、並びに、生成微粒子を収集しやすいレーザアブレーション装置を提供する。
効果 この方法で金微粒子を製造すると、350nm以上の粒径を有する大型の金微粒子の生成個数が顕著に増加する。また、このレーザアブレーション装置では、レーザアブレーションにより生成された微粒子が、収集部材の上面に形成された凹部に堆積する。そのため、生成された微粒子を収集しやすい。
技術概要
この金微粒子の製造方法は、金からなるターゲットをチャンバ内に配置する工程と、チャンバ内に0.7以上の換算密度を有する超臨界トリフルオロメタンを収納する工程と、ターゲットにレーザ光を照射して、レーザアブレーションによりターゲットから金微粒子を生成する工程とを備える。超臨界トリフルオロメタンを超臨界流体として用い、かつ、その換算密度を0.7以上とすれば、350nm以上の粒径を有する大型の金微粒子の生成個数が顕著に増加するのである。好ましくは、さらに、超臨界トリフルオロメタンをチャンバ内に収納する前に、複数の凹部が形成された上面を有する収集部材をチャンバ内に配置する工程を備える。このレーザアブレーション装置は、チャンバと、収集部材と、生成装置と、レーザ装置とを備える。チャンバは、超臨界流体及びターゲットを収納する。収集部材は、収集部材は凹部が形成された上面を有しチャンバ内に配置される。生成装置は、超臨界流体を生成する。レーザ装置は、レーザ光をターゲットに照射する。図は、超臨界トリフルオロメタンの換算密度と大型金微粒子の生成数との関係を示す。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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