光触媒高機能化技術

開放特許情報番号
L2011004966
開放特許情報登録日
2011/9/9
最新更新日
2015/6/26

基本情報

出願番号 特願2011-135250
出願日 2011/6/17
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2013-000673
公開日 2013/1/7
発明の名称 光触媒高機能化技術
技術分野 機械・加工
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 光触媒無機材料等の光機能無機材料を高機能化する技術光触媒無機材料等の光機能無機材料を高機能化する技術光触媒無機材料等の光機能無機材料を高機能化する技術、光触媒特性無機材料の形成
目的 基材上に固定化された光触媒材料もしくは、化学溶液法で作製された光触媒材料の前駆体に紫外線パルスレーザーを照射し、材料を溶融させずに表面形状を維持して結晶性を向上させることによって高い光触媒能を有する無機材料の形成方法を提供する。
効果 材料溶融を避けた照射レーザーのフルエンス制御を行い、材料表面の幾何学構造を大きく変化させることなく材料表面近傍の結晶成長を促進し結晶子サイズを増大させる。表面近傍の結晶子サイズの増大は光励起による電子の輸送を促進し、光触媒能を高めることが出来る。
本発明により現在用いられている光触媒材料に対して表面改質による光触媒能の向上が期待される。
光触媒材料の光応答性を使った光化学電池やフォトクロミック材料などの高機能化も可能である。
技術概要
紫外線パルスレーザー照射により基材上の光機能無機材料を処理する工程又は基材上の前駆体を処理して光機能無機材料とする工程で、対象材料が溶融しないようにレーザー照射フルエンスを30〜100mJ/cm↑2の範囲で制御する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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