固体表面の濡れ性制御方法及びその固体表面

開放特許情報番号
L2011004954
開放特許情報登録日
2011/9/9
最新更新日
2015/8/19

基本情報

出願番号 特願2011-124562
出願日 2011/6/2
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2012-140580
公開日 2012/7/26
登録番号 特許第5768233号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 固体表面の濡れ性制御方法及びその固体表面
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 固体表面の濡れ性制御方法及びその固体表面
目的 固体表面の濡れ性制御方法及びその固体表面を提供する。
効果 膜厚が極めて薄いため、処理する実用金属/合金の金属光沢や、ガラスや石英の透明性を維持したまま、意匠性を損なうことなく表面処理を施すことができる。
基板を加熱するだけで、ヒステリシスを変化させる(小さくする)ことができ、温度制御により、ヒステリシスを可逆的に変化させることが可能である。
反応せず残存した反応基を利用して、更に異なる分子を固定化することにより、疎水(はっ水)性/はつ油性以外に、親水性、耐薬品性、防曇性、離形性、抗菌性、生体親和性等の機能を付与することが可能である。
技術概要
金属、金属酸化膜、金属酸化物、合金、半導体、ポリマー、セラミックス、ガラス、石英の内から選択した固体表面に、シリコーンのホモポリマー原液又はコポリマー原液、あるいは非晶性フッ素樹脂をフッ素系溶媒で希釈した溶液を、滴下あるいはスピンキャストし、相対湿度5%以下の窒素雰囲気下、50〜180℃で、24〜72時間、加熱処理した後、余剰分子を有機溶剤で除去することで、該固体表面をシリコーンのホモポリマー膜等で均一に被覆することにより、表面に付着した液滴の前進接触角と、後退接触角との差(ヒステリシス)が、5°以下になるようにすることからなる固体表面の濡れ性制御方法、及び該方法により改質された固体表面。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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