含フッ素1,3−ジオキソラン化合物の製造方法、含フッ素1,3−ジオキソラン化合物、含フッ素1,3−ジオキソラン化合物の含フッ素ポリマー、及び該ポリマーを用いた光学材料又は電気材料

開放特許情報番号
L2011004847
開放特許情報登録日
2011/9/9
最新更新日
2015/10/2

基本情報

出願番号 特願2010-241494
出願日 2010/10/27
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2011-093904
公開日 2011/5/12
登録番号 特許第5241795号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 含フッ素1,3−ジオキソラン化合物の製造方法、含フッ素1,3−ジオキソラン化合物、含フッ素1,3−ジオキソラン化合物の含フッ素ポリマー、及び該ポリマーを用いた光学材料又は電気材料
技術分野 化学・薬品、電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 含フッ素1,3−ジオキソラン化合物、含フッ素1,3−ジオキソラン化合物の含フッ素ポリマー、及びポリマーを用いた光学材料又は電気材料
目的 有用で新規な含フッ素化合物の製造方法、この製造方法により得られる含フッ素化合物、含フッ素化合物の含フッ素ポリマー、及び含フッ素ポリマーを用いた光学材料又は電気材料を提供する。
効果 有用で新規な含フッ素化合物の製造方法、製造方法により得られる含フッ素化合物、含フッ素化合物の含フッ素ポリマー、及び含フッ素ポリマーを用いた光学材料又は電気材料を提供することができる。
技術概要
式I(図1)(式I中、R↓f↓f↑1及びR↓f↓f↑2は各々独立に、フッ素原子又は炭素数1〜7のパーフルオロアルキル基を表す。nは、1〜4の整数を表す。)で表される含フッ素化合物である。また、含フッ素化合物の重合により得られる含フッ素ポリマーである。また、含フッ素ポリマーを含む光学部材又は電気部材である。また、光学部材が、光導波路、光学レンズ、プリズム、フォトマスク、又は光ファイバーである光学部材又は電気部材である。さらに、式II(図2)(式II中、Xは水素原子又はフッ素原子を表す。Yは水素原子、炭素数1〜7のアルキル基、又は炭素数1〜7のポリフルオロアルキル基を表す。R↓3又はR↓4は各々独立に、水素原子、炭素数1〜7のアルキル基、又は炭素数1〜7のポリフルオロアルキル基を表す。nは、1〜4の整数を表す。)で表される化合物である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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