らせん構造が制御された合成高分子、及びそれからなるホストゲスト化合物、並びにそれらの製造方法

開放特許情報番号
L2011004822
開放特許情報登録日
2011/9/9
最新更新日
2018/1/5

基本情報

出願番号 特願2009-513980
出願日 2008/3/18
出願人 国立研究開発法人科学技術振興機構
公開番号 WO2008/139674
公開日 2008/11/20
登録番号 特許第5392844号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 らせん構造が制御された合成高分子、及びそれからなるホストゲスト化合物、並びにそれらの製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 らせん構造が制御された高分子化合物に適用する。
目的 メタクリレート系ポリマーを原料とするらせん高分子化合物を製造する方法を提供する。
効果 任意の巻き方向に制御されたらせん高分子化合物を廉価な汎用高分子から簡便に製造できる。
技術概要
 
シンジオタクチックポリメタクリレート系又はシンジオタクチックポリアクリレート系ポリマー、及び、キラル化合物を溶媒に溶解させ、次いで、これを冷却又は濃縮して生成する固形分を分離することからなる、らせん構造の巻き方向が制御されたシンジオタクチックポリメタクリレート系又はシンジオタクチックポリアクリレート系ポリマーらせん高分子化合物を製造する方法にする。シンジオタクチックポリメタクリレート系又はシンジオタクチックポリアクリレート系ポリマーとしては、分子量が、1,000から10,000,000であるシンジオタクチックポリメチルメタクリレートが、また、キラル化合物としては、光学活性な1−フェニルエタノール又は1−フェニルエチルアミンが、好ましく用いられる。尚、このらせん高分子化合物は、キラル化合物を、例えば、トルエン、1,2−ジクロロベンゼン等の溶媒に溶解させた溶液へ、シンジオタクチックポリメタクリレート系又はシンジオタクチックポリアクリレート系ポリマーを添加した後、これを加熱して溶解させ、次いで、これを冷却又は濃縮してゲル化させることにより得られる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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