走査型リアルタイム顕微システムおよび走査型X線高速描画システム

開放特許情報番号
L2011004784
開放特許情報登録日
2011/9/9
最新更新日
2015/11/9

基本情報

出願番号 特願2009-118868
出願日 2009/5/15
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2010-266368
公開日 2010/11/25
登録番号 特許第5429861号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 走査型リアルタイム顕微システムおよび走査型X線高速描画システム
技術分野 電気・電子、金属材料、食品・バイオ
機能 検査・検出
適用製品 走査型リアルタイム顕微システムおよび走査型X線高速描画システムとして電気・電子分野等で広く利用される。
目的 高い空間分解能と高い時間分解能と簡便なモニタリングとを兼ね備えた走査型リアルタイム顕微システムおよび走査型X線高速描画システムを提供する。
効果 試料を動かす従来の構成では得られなかった高い空間分解能と高い時間分解能と簡便なモニタリングとをすべて兼ね備えた走査型リアルタイム顕微システムを実現することができる。
技術概要
X線ビームを照射する光源3と、光源から照射されたX線ビームを集光する集光手段と、X線ビームを集光する集光手段を動かす駆動手段2とを備えた、走査型リアルタイム顕微システム10aである。尚、集光手段は、回折によりX線ビームを集光するゾーンプレート(ZP)1を含み、また、駆動手段は、ピエゾ素子を含み、また、駆動手段は、ZPに入射するX線ビームの進行方向に垂直な方向の周りにZPを回動させる。また、集光手段は、X線ビームを試料6に集光し、走査型リアルタイム顕微システムは、試料の透過コントラスト像を得る蛍光板7と、蛍光板上の透過コントラスト像を拡大する光学顕微鏡ユニット8とをさらに備える。更に、X線ビームを照射する光源と、光源から照射されたX線ビームを集光する集光手段と、X線ビームを集光する集光手段を動かしてX線ビームにより試料に高速描画する駆動手段とを備えた、走査型X線高速描画システムを構成する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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