測定装置及び測定方法

開放特許情報番号
L2011004673
開放特許情報登録日
2011/9/2
最新更新日
2014/12/18

基本情報

出願番号 特願2009-181704
出願日 2009/8/4
出願人 国立大学法人広島大学
公開番号 特開2011-033537
公開日 2011/2/17
登録番号 特許第5626750号
特許権者 国立大学法人広島大学
発明の名称 測定装置及び測定方法
技術分野 その他
機能 機械・部品の製造、検査・検出
適用製品 測定装置
目的 一般的なX線源を用いて、高精度なXAFS(X−ray Absorption Fine Structure)測定を行うことができる測定装置及び測定方法を提供する。
効果 少なくとも特定のエネルギ帯域の成分を含むX線を、集光素子を用いて、サンプル上に集光するので、サンプルに照射されるX線のビーム強度の損失を小さくした状態で、X線のビームサイズを小さくすることができる。この結果、シンクロトロン等の大規模な光源を必要とすることなく、一般的なX線源を用いて、高いエネルギ分解能でのXAFS測定が可能となる。
技術概要
図1に示すように、測定装置1では、X線源2は、少なくとも所定のエネルギ帯域の成分を含むX線を放射する。集光素子3は、X線源2から放射されたX線を集光する。試料台4は、集光素子3によるX線の集光位置Fに対して、サンプル10を進入退避可能に載置する。分光結晶5は、集光位置Fから発散するX線を斜入射することにより、そのX線を分光する。検出装置6は、分光結晶5により分光されたX線の強度分布を検出する。演算装置7は、検出装置6によって検出された強度分布に基づいて、サンプル10のX線吸収スペクトルを演算により求める。蛍光X線顕微鏡8は、X線が照射されたサンプル10で発生する蛍光X線を検出し、検出された蛍光X線に基づく2次元画像を作成する。この2次元画像は、オペレータが観察可能となっている。オペレータは、この2次元画像を観察して、サンプル10内の測定対象となるべき部分を探索する。図2は集光素子の構造を示す模式図、図3は、分光結晶における分光の様子を示す模式図、図4は、物質のX線の吸収スペクトルを測定する方法を説明するためのフローチャート、である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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