固形化した洗浄剤組成物およびその製造方法

開放特許情報番号
L2011004661
開放特許情報登録日
2011/9/2
最新更新日
2014/2/25

基本情報

出願番号 特願2009-524438
出願日 2008/7/4
出願人 国立大学法人広島大学
公開番号 WO2009/013991
公開日 2009/1/29
登録番号 特許第5424482号
特許権者 国立大学法人広島大学
発明の名称 固形化した洗浄剤組成物およびその製造方法
技術分野 化学・薬品、生活・文化
機能 材料・素材の製造、安全・福祉対策
適用製品 固形化した洗浄剤組成物
目的 オクタデシルジメチル(3−トリメトキシシリルプロピル)アンモニウムクロライドなどの液体状抗菌性洗浄を粉末化・固体化し、さらに水道水に再溶解できるようにすることにより、抗菌洗浄剤を、粉末洗剤および固形洗剤への利用を可能にさせる。
効果 オクタデシルジメチル(3−トリメトキシシリルプロピル)アンモニウムクロライドなどのケイ素含有化合物を含む洗浄剤組成物の固形化(粉末化)が達成され、粉末洗浄剤や固形洗浄剤に抗菌剤を使用することが可能となり、抗菌効果を付加した粉末洗浄剤や固形洗浄剤を提供できる。
技術概要
この固形化した洗浄剤組成物は、(a)式(1)で表されるケイ素含有化合物に、(b)陽イオン界面活性剤(ただし、このケイ素化合物を除く)(b1)および非イオン界面活性剤(b2)から選ぶ1種以上の界面活性剤を添加した溶液を減圧乾燥したもの、又はケイ素含有化合物の溶液を減圧乾燥し、得られた減圧乾燥物に界面活性剤を添加したものである。式中、R↑1は炭素原子数6以上の炭化水素基、R↑2、R↑3は低級炭化水素基、R↑4は二価の低級炭化水素基、R↑5〜R↑7は、低級アルキル基、低級アルコシ基、Xはハロゲンイオンまたは有機カルボキニルオキシイオンを示す。ケイ素含有化合物(a)は、オクタデシルジメチル(3−トリメトキシシリルプロピル)アンモニムクロライド等を例示できる。陽イオン界面活性剤(b)は、式(2)で表される、ただし、ケイ素化合物(a)を除く陽イオン界面活性剤及び/又はN−ココイル−アルギニンエチルエステルピリドンカルボン酸塩である。式中、R↑1↑1は炭素原子数6以上の炭化水素基、R↑1↑2〜R↑1↑4は、低級炭化水素基を示す。
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 抗菌性ケイ素含有化合物、陽イオン界面活性剤あるいは非イオン界面活性剤、および好ましくは低級アルコールを含有する混合液を減圧乾燥することにより、この固形化した洗浄剤組成物を得ることができる。減圧乾燥の条件は必用に応じて適宜改変することができるが、約-30℃~-60℃という低温で減圧乾燥をすることは好ましく、それによって抗菌性成分などの分解を防ぐことができる。
改善効果2 この洗浄剤組成物は固形化されているために、粉末洗剤および固形洗剤へ利用できると共に、水道水への再溶解性という点でも優れている。また固形化により洗浄剤組成物の最終製品のコンパクト化も達成され、洗浄剤組成物の産業上の有用性は大である。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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