リグノフェノールの製造方法及びそれから得られる低分子量リグノフェノール

開放特許情報番号
L2011004441
開放特許情報登録日
2011/9/2
最新更新日
2015/11/9

基本情報

出願番号 特願2007-071633
出願日 2007/3/19
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2008-231213
公開日 2008/10/2
登録番号 特許第5146799号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 リグノフェノールの製造方法
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 リグノセルロース
目的 リグノフェノールの製造方法及びそれから得られる低分子量リグノフェノールの提供。
効果 不純物の少ない高分子量のリグノフェノールを、安価に工業的に量産化を達成することができる。さらに、低分子量のリグノフェノールの製法も確立され両者をあわせて用途の拡大など波及効果はきわめて大きい。
技術概要
本技術は、リグノフェノールを含むフェノール類やリグノフェノールのアセトンなどの親溶媒に溶解した溶液を、ジエチルエーテルなどのリグノフェノールの貧溶媒に滴下してリグノフェノールの析出と分離を行う際に超音波照射を行うと凝集塊を形成しにくくなることを見出し、リグノフェノール溶液の高濃度化および滴下速度の高速化を達成できること、そして、精製された高分子量リグノフェノールを分離して回収した後の残液を、さらに溶媒に超音波照射下で滴下することで、低分子量リグノフェノールを回収できることをも見出し、本技術に至った。即ち、本技術のリグノフェノールの製造方法は、出発原料となるリグノセルロース系材料からリグノフェノールを含むフェノール類からなる相を抽出する工程と、リグノフェノールを含むフェノール類からなる相を貧溶媒へ添加して粗リグノフェノールを分離する工程と、を備え、分離工程において貧溶媒へ超音波を照射することを特徴とする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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