多孔質シリカゲル及びシリカガラスの製造方法

開放特許情報番号
L2011004439
開放特許情報登録日
2011/9/2
最新更新日
2015/11/9

基本情報

出願番号 特願2007-066988
出願日 2007/3/15
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2008-222527
公開日 2008/9/25
登録番号 特許第4912190号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 多孔質シリカゲル及びシリカガラスの製造方法
技術分野 無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 ゾル−ゲル法、多孔質シリカゲルの焼結
目的 4官能ケイ素アルコキシドを原料とし、水及びアルコールという取扱い及び廃棄が容易で環境負荷の小さい溶媒のみを使用し、亀裂のない多孔質シリカゲル及び多孔質シリカゲルを焼結して亀裂と泡のないシリカガラスを製造する方法の提供。
効果 4官能ケイ素アルコキシドを原料とし、水及びアルコールという取扱い及び廃棄が容易で環境負荷の小さい溶媒のみを使用する方法であり、得られる多孔質シリカヒドロゲルは細孔のサイズが大きいため、比較的短時間で乾燥させて亀裂の無い多孔質シリカゲルを得ることができ、さらにすみやかに亀裂と泡のないシリカガラスへ焼結することができる。
技術概要
 
本技術は、4官能ケイ素アルコキシドに水を加えて加水分解してシリカヒドロゲルを形成し、これを乾燥して多孔質シリカゲルを製造する方法において、4官能ケイ素アルコキシドに水及び酸を添加する(混合工程1)ことによって酸性下で4官能ケイ素アルコキシドを部分加水分解反応させた反応溶液に、さらに、塩基性水溶液、又は弱酸の塩を含む水溶液を添加する(混合工程2)ことによって反応溶液を中和し、4官能ケイ素アルコキシドを完全加水分解せぬまま重縮合させて表面が疎水化したシリカ高分子からなるシリカヒドロゲル相を形成し、シリカヒドロゲル相と水及び4官能ケイ素アルコキシドの部分加水分解によって生じたアルコールとからなる溶媒相との相分離を起こさせることによって、多孔質シリカヒドロゲルを形成し、これを乾燥することを特徴とする多孔質シリカゲルの製造方法、である。また、4官能ケイ素アルコキシドはアルコールで希釈されていることを特徴とする多孔質シリカゲルの製造方法、である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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