超伝導化合物薄膜及びその作成方法

開放特許情報番号
L2011004428
開放特許情報登録日
2011/9/2
最新更新日
2015/11/9

基本情報

出願番号 特願2007-034150
出願日 2007/2/14
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2008-195583
公開日 2008/8/28
登録番号 特許第4885002号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 超伝導化合物薄膜及びその作成方法
技術分野 電気・電子、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 超伝導転移温度、電気抵抗がゼロとなる超伝導電気伝導、可視光域で透明
目的 可視光領域で透明な超伝導化合物薄膜を実現。
効果 40nmの膜厚を基準にJIS R1635(ファインセラミックス薄膜の光透過率試験、1998年)で規定される方法により測定した場合、80%以上の可視光透過率を有する、可視域で透明な超伝導化合物薄膜を提供する。
技術概要
本技術は、その上に成膜する薄膜に対して酸化機能を有しないYAGなどの単結晶基板上にエピタキシャル成長させたC12A7結晶薄膜に、還元処理により、理論限界濃度(2.3×10↑(21)cm↑(−3))に近い高濃度の電子を導入し、可視光透明性と超伝導性が共存した化合物を実現させることに成功した。すなわち、本技術は、化学式[Ca↓(24)Al↓(28)O↓(64)]↑(4+)・2[xO↑(2−)+2yA+2{1−(x+2y)}e↑−](A=OH↑−、O↑−、O↓2↑−のいずれか1種以上、0≦x+2y≦0.5)で示され、超伝導電気伝導を示し、かつ膜厚40ナノメートルを基準として、JIS R1635で規定される方法により測定した可視光透過率が80%以上であるマイエナイト型結晶構造を有する化合物からなることを特徴とする超伝導化合物薄膜、である。なお、化学式中のx、yは、O↑(2−)およびAの成分量をそれぞれ示す数値である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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