出願番号 |
特願2006-540824 |
出願日 |
2004/11/25 |
出願人 |
独立行政法人科学技術振興機構 |
公開番号 |
WO2005/054313 |
公開日 |
2005/6/16 |
登録番号 |
特許第4741508号 |
特許権者 |
国立研究開発法人科学技術振興機構 |
発明の名称 |
フッ素化ポリマー、光学部材、電気部材及びコーティング材料 |
技術分野 |
有機材料 |
機能 |
材料・素材の製造 |
適用製品 |
プラスチック光ファイバー、フォトレジスト材料 |
目的 |
新規なフッ素化ポリマー、光学部材、電気部材及びコーティング材料の提供。 |
効果 |
本技術によれば、有用で新規なフッ素化ポリマー、及びフッ素化ポリマーを用いた光学部材、電気部材及びコーティング材料を提供することができる。 |
技術概要
|
この技術では、式(4)で表される含フッ素化合物の製造方法において、第一の製造方法は、1,3−ジオキソラン誘導体である含フッ素化合物は、2−クロロ−2,2−ジフロロエタン−1,1−ジオールと、式(3)で表される化合物とを用いて製造される。ここで、Xは、水酸基、塩素原子又は臭素原子を表し、好ましくは、塩素原子である。即ち、第一の製造方法は(1)、(2)の2つの工程を含み、簡易かつ安価な方法である。(1)2−クロロ−2,2−ジフロロエタン−1,1−ジオールと、式(3)で表される化合物の少なくとも1種とから、塩化カルシウムと炭酸カリウムとを用いて、脱水しながら脱ハロゲン化水素を行う工程。(2)塩基により、脱ハロゲン化水素を行う工程である。 |
イメージ図 |
|
実施実績 |
【無】 |
許諾実績 |
【無】 |
特許権譲渡 |
【否】
|
特許権実施許諾 |
【可】
|