フッ素化ポリマー、光学部材、電気部材及びコーティング材料

開放特許情報番号
L2011004416
開放特許情報登録日
2011/9/2
最新更新日
2015/10/2

基本情報

出願番号 特願2006-540824
出願日 2004/11/25
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 WO2005/054313
公開日 2005/6/16
登録番号 特許第4741508号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 フッ素化ポリマー、光学部材、電気部材及びコーティング材料
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 プラスチック光ファイバー、フォトレジスト材料
目的 新規なフッ素化ポリマー、光学部材、電気部材及びコーティング材料の提供。
効果 本技術によれば、有用で新規なフッ素化ポリマー、及びフッ素化ポリマーを用いた光学部材、電気部材及びコーティング材料を提供することができる。
技術概要
この技術では、式(4)で表される含フッ素化合物の製造方法において、第一の製造方法は、1,3−ジオキソラン誘導体である含フッ素化合物は、2−クロロ−2,2−ジフロロエタン−1,1−ジオールと、式(3)で表される化合物とを用いて製造される。ここで、Xは、水酸基、塩素原子又は臭素原子を表し、好ましくは、塩素原子である。即ち、第一の製造方法は(1)、(2)の2つの工程を含み、簡易かつ安価な方法である。(1)2−クロロ−2,2−ジフロロエタン−1,1−ジオールと、式(3)で表される化合物の少なくとも1種とから、塩化カルシウムと炭酸カリウムとを用いて、脱水しながら脱ハロゲン化水素を行う工程。(2)塩基により、脱ハロゲン化水素を行う工程である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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