炭素系薄膜およびその製造方法、ならびにこの薄膜を用いた部材

開放特許情報番号
L2011004356
開放特許情報登録日
2011/9/2
最新更新日
2018/1/5

基本情報

出願番号 特願2006-510488
出願日 2005/2/25
出願人 国立研究開発法人科学技術振興機構
公開番号 WO2005/083144
公開日 2005/9/9
登録番号 特許第4672650号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 炭素系薄膜およびその製造方法、ならびにこの薄膜を用いた部材
技術分野 金属材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 カーボンナノチューブ、フラーレン、電子デバイス、水素吸蔵材料
目的 炭素系薄膜とその製造方法、ならびに、炭素系薄膜を用いた部材の提供。
効果 本技術によれば、電気的、光学的、機械的諸特性が異なる相が厚さ方向に沿って伸長した特徴的な微細構造を有する炭素系薄膜を提供できる。さらに、本技術の炭素系薄膜は、局所的に異なる光学特性を有する領域を配置しうるため、各種光学デバイスへの適用も可能である。
技術概要
本技術の炭素系薄膜では、複数の柱状の第1相が膜の厚さ方向に伸長し、第2相が第1相の間に介在している。この薄膜は、いわゆるカラム−カラム間組織を有し、非晶質炭素を含むカラム組織(第1相)とグラファイト構造を含むカラム間組織(第2相)とから構成されている。第1相および第2相は、ともに炭素系材料からなるが、互いに異なる相を構成し、異なる特性を有する。これら2つの相は、微視的には同じ構造を含んでいてもよく、例えば第1相にグラファイト構造が含まれていてもよい。ただし、通常、第2相は、第1相よりも構造的な秩序性が高く、多くのグラファイト構造を含む。第1相と第2相とは諸特性において異なるが、この相違にはグラファイト構造の含有量の差異が少なからず影響している。第2相にも非晶質炭素が含まれていてもよく、第1相および第2相は、異なる特性を有する異なる相として判別できる限り、ともに、全体としては非晶質に分類される相であってもよい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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