荷電粒子加速方法及び荷電粒子加速装置、粒子線照射装置、医療用粒子線照射装置

開放特許情報番号
L2011004346
開放特許情報登録日
2011/9/2
最新更新日
2015/8/7

基本情報

出願番号 特願2009-265011
出願日 2009/11/20
出願人 独立行政法人 日本原子力研究開発機構
公開番号 特開2011-108579
公開日 2011/6/2
登録番号 特許第5483175号
特許権者 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構
発明の名称 荷電粒子加速方法及び荷電粒子加速装置、粒子線照射装置、医療用粒子線照射装置
技術分野 電気・電子、生活・文化
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 電子ビーム、イオンビーム、加工・成膜・分析・医療行為
目的 レーザー光を気体に照射してプラズマ化し、このプラズマ中で電子やイオン等の荷電粒子を加速して高エネルギーの電子ビームやイオンビームとして出力させる荷電粒子加速方法、荷電粒子加速装置の提供、ならびに、これらによって加速された荷電粒子を試料に照射する粒子線照射装置、患者の患部に照射する医療用粒子線照射装置の提供。
効果 本技術によれば、小型化が可能な構成で、高いビーム制御性で、安定して荷電粒子を高エネルギーに加速することができる。
技術概要
この技術では、パルス出力中で最も高い強度をもつ主部の強度I↓bは、第1の電離度までこのガスを電離できるだけの強度である。ただし、I↓bの強度を持つパルスレーザー光がプラズマ中で相対論的自己集束された際には、第1の電離度よりも高い第2の電離度までこのガスが電離されるように、I↓bは設定される。また、この主部の前に、I↓bよりも低い強度I↓aをもつ前駆部が存在する。前駆部の強度I↓aは、第1の電離度よりも低い第3の電離度までこのガスを電離できるだけの強度とする。この前駆部によって、主部が照射される前のプラズマ中において、光導波路構造が形成される。主部の照射においては、パルスレーザー光をこの光導波路構造中において伝搬させることができるため、充分な長さの加速場をより安定して形成することができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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