炭素膜積層体、並びにその積層体の製造方法及びそれを用いた潤滑材

開放特許情報番号
L2011004303
開放特許情報登録日
2011/8/26
最新更新日
2015/10/27

基本情報

出願番号 特願2013-514058
出願日 2012/5/10
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 WO2012/153819
公開日 2012/11/15
登録番号 特許第5652927号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 炭素膜積層体、並びにその積層体の製造方法及びそれを用いた潤滑材
技術分野 金属材料、化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 炭素膜積層体、並びにその積層体の製造方法及びそれを用いた潤滑材
目的 新しい機能を有する炭素膜を提供し、その炭素膜のもつ基材への高い付着性、硬度、表面平坦性、耐摩耗性、低摩擦、低相手攻撃性、高熱伝導性を利用して、液体潤滑材などを用いることなく、低摩擦、長寿命、高平坦性、低相手攻撃性、高精度な摺動・摩擦面をもつ積層体を提供することを目的とするものである。また、その製造方法を提供する。
効果 本発明の積層体は、その炭素膜が有する基材への高い付着性、硬度、表面平坦性、透明度、熱伝導率、低摩擦係数、低比摩耗量、低相手攻撃性を有している。したがって、本発明の積層体を用いることにより、潤滑油や固体潤滑剤等を用いることなく、低摩擦・低磨耗な摩擦面を持つ積層体を提供することが可能である。本発明の炭素膜堆積方法によれば、基材表面の摩擦・摩耗特性を改善するばかりでなく、炭素膜の透明性、熱伝導性により、無着色および放熱性の高い摺動面を提供する。
技術概要
本発明は、炭素膜のもつ基材への高い付着性、硬度、表面平坦性、低相手材攻撃性、透明性、高熱伝導性を利用し、潤滑油などの液体・半液体潤滑剤を用いることなく、低摩擦および低磨耗、低相手攻撃性の摺動面をもつ炭素膜積層体を提供することを目的とするものであって、本発明は、基材と、該基材の上に設けられた、フッ素原子(F)を1×10↑19個/cm↑3以上の濃度で含有する酸化シリコン(Si0x、x=1〜2)からなる炭素膜付着増強層と、該炭素膜付着増強層上に設けられた炭素膜とを備え、該炭素膜はその膜中にフッ素原子を1×10↑19〜1×10↑21個/cm↑3の濃度で含有し、CuKα↓1線によるX線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角(2θ±0.5°)の43.9°のピークフィッティング曲線Aに41.7°のピークフィッティング曲線Bおよびベースラインを重畳して得られる近似スペクトル曲線を有する炭素膜積層体を提供するものである。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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