磁性光硬化樹脂およびそれを用いて作成した磁性立体構造物

開放特許情報番号
L2011004274
開放特許情報登録日
2011/8/26
最新更新日
2015/10/2

基本情報

出願番号 特願2008-331710
出願日 2008/12/26
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2010-150441
公開日 2010/7/8
登録番号 特許第5535474号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 磁性光硬化樹脂およびそれを用いて作成した磁性立体構造物
技術分野 有機材料、電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 磁性光硬化樹脂、光造形に適用可能な磁性光硬化性樹脂、ラピッドプロトタイピング微細加工法、磁性光硬化樹脂を用いた磁性立体構造物、磁気駆動マイクロアクチュエータ
目的 光造形法はラピッドプロトタイピングを基とした微細加工法であり、複雑な立体マイクロ構造物を容易にかつ短時間に作製可能とするが、反面、使用可能な材料が光で固まるポリマー材料に限られ、材料の選択性に問題があった。近年、適用可能な機能性光硬化樹脂が開発されているが、磁性構造を立体的に作製可能な材料は未だ存在しない。流動性の高い光硬化樹脂に磁性微粒子を添加しただけでは、微粒子の凝集及び沈殿が生じ、作製構造物の質の低下につながる。そこで、複雑な磁性立体構造物を作製するため、光造形に適用可能な磁性光硬化樹脂を提供する。
効果 この技術により、光硬化樹脂に磁性微粒子を凝集及び沈殿を防ぐとともに均一に分散させることができ、複雑な任意立体形状を持った磁性立体構造物が実現可能となり、新たな磁気駆動アクチュエータやセンサが実現可能となる。この成果は現在急成長しているマイクロデバイス分野や医療など様々な分野での革新的技術となる。ラピッドプロトタイピング技術を基としているので、CADによる形状の設計から実際の磁性構造物の作製までの時間短縮にもつながる。
技術概要
この磁性光硬化樹脂は、所定量の磁性微粒子を光硬化樹脂に添加するとともにその磁性粒子の凝集及び沈殿を防ぐために、同時に所定量の増粘剤を添加し攪拌することで、磁性微粒子を均一分散させたものである。光硬化樹脂としてはエポキシ系樹脂が、磁性微粒子としてはフェライト微粒子が、そして、増粘剤としてはヒュームドシリカ、炭酸カルシウムのいずれかであることが好ましい。この磁性光硬化樹脂を使用し、光造形方法により作成した磁性立体構造物が提供される。光造形方法には、光源として、UV(紫外線)レーザが使用される。図は、光造形法で作成された立体構造物を示す写真である((a);直径500μm、長さ2mm、ピッチ1mmのらせん構造、(b);外径500μm、高さ250μmのファン、(c);φ1mm、高さ700μmのシロッコファンであり、ファンの羽根の厚さは50μm、(d);カブト虫状のマイクロ彫刻である。(a)(c)はSCR770に磁性微粒子50wt%、増粘剤5wt%混ぜた磁性光硬化樹脂で作製、(b)(d)は磁性微粒子を30wt%混ぜた磁性光硬化樹脂で作製。)。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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