任意の分布形状と分布密度を有する分子または粒子の集団を同時に多種大量生成する方法とその方法に使用するマスク材

開放特許情報番号
L2011004258
開放特許情報登録日
2011/8/26
最新更新日
2015/11/5

基本情報

出願番号 特願2008-237696
出願日 2008/9/17
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2010-068728
公開日 2010/4/2
登録番号 特許第5231909号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 任意の分布形状と分布密度を有する分子または粒子の集団を同時に多種大量生成する方法とその方法に使用するマスク材
技術分野 食品・バイオ、無機材料、金属材料
機能 材料・素材の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 任意の分布形状と分布密度を有する分子または粒子の集団を同時に多種大量生成する方法、規定のサイズを有する細胞の集合体を形成する手法、金属ナノ粒子などの機能性材料を規定のパターンと密度で基板上に堆積させる方法
目的 対象物質を含む1種類の濃度の母溶液あるいは懸濁液を、基材上に載置した所定の構造を有するマスク材上に加えることにより、物質の沈降を利用して、分布形状と分布密度の複数の組み合わせ条件を有する物質の子集団群を、同一の基材上に多種大量形成することができる方法、及び、そのために用いるデバイス(マスク材)を提供する。
効果 1種類の濃度の物質の溶液又は懸濁液から、任意の分布形状と分布密度を有する物質の集団群を、様々な材料の基材表面に、1回の操作で、多種大量に一括形成することが可能となり、結果として、多種多量の形状と密度の組み合わせ条件の解析を効率的に行うことが可能となる。また、操作に用いる物質のほぼ全量が集団形成に利用され、結果として、高価な物質、希少な物質の使用量を節約できる。
技術概要
微細な粒子あるいは分子の集団を、分布形状と分布面密度を規定して、基材6上に形成する方法であって、目的とする分布形状と、分布密度に応じて設計される、傾斜付き壁構造4を有する貫通孔を並列配置したマスク材1を準備し、当該物質の溶液あるいは懸濁液を、基材6上に密着させたマスク材1上に載置し、マスク材1の傾斜付き壁構造4によって規定される領域内に当該物質を沈降させることにより、壁構造4の上部境界2によって囲まれた領域を通過して、傾斜付き壁面に沿って沈降する物質が、壁構造4の下部境界3によって囲まれた、基材6上の所定領域内に堆積する任意の分布形状と分布密度を有する分子または粒子の集団を同時に多種大量生成する方法である。図は、傾斜付き壁構造を有するマスク材およびそれを用いた物質集団形成方法の一例を示す断面模式図である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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