C12A7エレクトライドからなる導電性素子材料表面に対するオーミック接合形成方法

開放特許情報番号
L2011004250
開放特許情報登録日
2011/8/26
最新更新日
2015/11/5

基本情報

出願番号 特願2008-208753
出願日 2008/8/13
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2010-045228
公開日 2010/2/25
登録番号 特許第5106313号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 C12A7エレクトライドからなる導電性素子材料表面に対するオーミック接合形成方法
技術分野 無機材料、電気・電子、化学・薬品
機能 表面処理、機械・部品の製造、その他
適用製品 FEDの冷電子放出源、PDPの2次電子放出源、有機EL素子のための電子注入電極、熱電子発電素子等
目的 この発明は、冷電子放出源や有機EL等の素子へC12A7エレクトライドを応用するために、大気中でも界面が劣化することが少ない、オーミック表面を形成する方法を提供する。
効果 この発明によれば、C12A7エレクトライドを導電性素子材料として用いる素子に、接触抵抗の小さいオーミック接合を形成することが可能となる。
技術概要
C12A7エレクトライド層にオーミック表面電極を実現するために、表面を活性化する手段としては、超高真空中で600〜900℃に加熱する方法、オゾン雰囲気中での紫外線照射方法、アルゴンプラズマ照射方法などの物理的方法が考えられる。しかし、大気中で長期にオーミック表面を維持するのは困難であった。この発明は、12CaO・7Al↓2O↓3エレクトライドを導電性素子材料として、その表面に金属を蒸着してオーミック接合を形成する場合、その素子材料表面をリン酸処理して改質した後、素子材料表面に金属を蒸着することによって、その素子材料表面と金属との界面の接触抵抗を0.5Ω・cm↑2未満とすることを特徴とするC12A7エレクトライドからなる導電性素子材料表面に対するオーミック接合形成方法である。処理するリン酸濃度は、50重量%〜90重量%の水溶液で、さらにリン酸濃度3重量%〜10重量%の水溶液に浸漬することも可能で、この表面処理によってオーミック接合部の接触抵抗を少なくすることができる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

登録者名称 国立研究開発法人科学技術振興機構

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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