光学材料のレーザー損傷評価方法

開放特許情報番号
L2011004237
開放特許情報登録日
2011/8/26
最新更新日
2015/11/5

基本情報

出願番号 特願2008-143602
出願日 2008/5/30
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2008-233104
公開日 2008/10/2
登録番号 特許第4637934号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 光学材料のレーザー損傷評価方法
技術分野 有機材料、無機材料、その他
機能 検査・検出、材料・素材の製造、その他
適用製品 光学結晶等の光学材料のレーザー損傷評価方法。
目的 非破壊・非接触であって短時間で安価に光学材料のレーザー損傷耐力を評価することのできる光学材料のレーザー損傷評価方法を提供すること。
効果 非破壊・非接触であって短時間で安価に光学材料のレーザー損傷耐力を評価することのできる。評価結果を光学材料製造段階にフィードバックすることで、より高均質・高レーザー耐力な波長変換結晶を作製するための高品質結晶育成条件の最適化にも大きく寄与する。
技術概要
光学材料のレーザー損傷評価方法は、光入射エネルギーを増加させながらその透過率の変化を調べたときに、透過率が線形吸収による減少の後、非線形的に減少する挙動を示し、さらに光入射エネルギーを増加させると、破壊となる現象が生じる。その非線形的な透過率減少が二光子吸収によると判断されるパルスレーザー光と光学材料について、入射パルスレーザー光強度を変化させて入射レーザー光強度と透過レーザー光強度を測定し、予め求めておいたレーザー損傷閾値の分かった同種の複数の結晶材料における入射パルスレーザー強度を変化させた入射光強度と透過レーザー光強度を測定した結果と比較して、レーザー光照射にともなうレーザー損傷耐力を非破壊で評価する。パルスレーザー光のパルス幅を10↑−↑1↑5s以上10↑−↑7s以下とするのが好ましく、またパルスレーザー光の波長λ(nm)を式λ↓0≦λ≦−110logT−685+λ↓(nm) (ただし、λ↓0はその光学材料の透過限界波長(単位nm)、Tはパルス幅(単位s)である)で表される波長がより好ましく、パルス幅が短く、波長が短いほど好ましい。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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