光加工装置

開放特許情報番号
L2011003931
開放特許情報登録日
2011/8/19
最新更新日
2018/1/5

基本情報

出願番号 特願2005-517943
出願日 2005/2/9
出願人 国立研究開発法人科学技術振興機構
公開番号 WO2005/078738
公開日 2005/8/25
登録番号 特許第4499666号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 光加工装置
技術分野 機械・加工、情報・通信、その他
機能 機械・部品の製造、検査・検出、その他
適用製品 フォトニッククリスタルや光導波路等の光学機能性部品、DNA分析や血液検査等のマイクロチップケミストリーの分野等
目的 加工用のレーザー光を照射することなく紫外光及び/又は軟X線のみで、被加工物のナノオーダーの加工を可能とすることを目的とし、そのために加工に最適な紫外光及び/又は軟X線を発生するための光源を選択するとともに、紫外光及び/又は軟X線の波長とマッチして集光効率を向上させ紫外光及び/又は軟X線のエネルギー密度を高くする最適条件を備えた紫外光及び/又は軟X線と楕円ミラーの構成を実現する。
効果 加工に最適な軟X線を発生するための光源を選択するとともに、軟X線の波長とマッチして集光効率を向上させる楕円ミラーを利用することで、軟X線のエネルギー密度を高くし、パターニングした軟X線(パターニング光)と加工用のレーザー光の両方を照射することなく、パターニングした軟X線のみで、被加工物をナノスケールの精度で加工できる。
技術概要
光加工装置は、光源部と集光照射手段とから成る。 光源部は、レーザー光を集光光学系でターゲットに集光照射し、被加工物が実効的に光吸収を生じるための紫外光及び/又は軟X線を発生させる。 集光照射手段は、紫外光及び/又は軟X線の波長に応じて紫外光及び/又は軟X線を高エネルギー密度に集光する光学系を備える。高エネルギー密度に集光された紫外光及び/又は軟X線を、被加工物に所定のパターンで照射し、被加工物を加工及び/又は改質する。 紫外光及び/又は軟X線の波長に応じて紫外光及び/又は軟X線を高エネルギー密度に集光する光学系は、楕円ミラーであり、光源部のうち紫外光及び/又は軟X線の発生源が楕円ミラーの二つの焦点のうちの一方の焦点に配置され、楕円ミラーで反射され他方の焦点に集光される紫外光及び/又は軟X線の波長に対する楕円ミラー表面の反射率Rと光源部から楕円ミラーの長軸方向の両端を見込む角であり式で規定されるφとの積を大きくする構成である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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