成膜方法及び成膜装置

開放特許情報番号
L2011003865
開放特許情報登録日
2011/8/12
最新更新日
2012/7/27

基本情報

出願番号 特願2007-262596
出願日 2007/10/5
出願人 国立大学法人 長崎大学
公開番号 特開2009-091613
公開日 2009/4/30
登録番号 特許第4984070号
特許権者 国立大学法人 長崎大学
発明の名称 成膜方法及び成膜装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 レーザアブレーション法、成膜方法、成膜装置
目的 成膜速度を損なうことなく、平滑性に優れた薄膜を形成する成膜方法及び成膜装置の提供。
効果 ドロップレットの原因となる粗大粒子を分解して成膜に寄与させるので、成膜速度を損なうことなく平滑性に優れた膜を基板上に成膜することができる。また、第2レーザ光を飛散物質に照射することにより、飛散物質が分解されるので、基板上に成膜されるドロップレットを抑制することができる。
技術概要
この技術では、成膜方法は、固体物質を有するターゲットに、第1レーザ光源からレーザ光を照射して、ターゲットの固体物質を飛散させる工程と、飛散された飛散物質に第2のレーザ光源からレーザ光を照射する工程とを有し、飛散された飛散物質を基板に付着させて成膜するものとする。また、成膜装置は、固体物質を有するターッゲトと、ターゲットにレーザ光を照射する第1レーザ光源と、ターゲットから飛散した飛散物質に対してレーザ光を照射する、少なくとも1以上のレーザ光源からなる第2レーザ光源と、飛散物質が付着して成膜される基板とを有するものとする。第2のレーザ光源からの第2レーザ光は、第1のレーザ光源の発振に対して所望の遅延をかけて発振されるように構成する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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