極細管内壁面のコーティング方法およびコーティング装置

開放特許情報番号
L2011003844
開放特許情報登録日
2011/8/12
最新更新日
2011/8/12

基本情報

出願番号 特願2005-121592
出願日 2005/4/19
出願人 国立大学法人 長崎大学
公開番号 特開2006-299333
公開日 2006/11/2
登録番号 特許第4621914号
特許権者 国立大学法人 長崎大学
発明の名称 極細管内壁面のコーティング方法およびコーティング装置
技術分野 電気・電子、機械・加工
機能 表面処理
適用製品 極細管、コーティング方法、コーティング装置
目的 例えば医療用カテーテル、チューブ等の、その内径が例えば数mmから1mm以下にも及ぶ、極細管に関しても、安定して極細管内壁面への例えば金属、セラミックそのほかの各種材料の成膜を良好に、すなわち確実にスパッタリングすることができる極細管内壁面のコーティング方法およびコーティング装置の提供。
効果 極細管内のせまい空間中で、良好にプラズマ生成がなされ、極細管、例えば数mmないしは1mm以下に及ぶ内径を有するカテーテル等の極細管の内壁面に、良質のコーティングをスパッタリングによって形成することができる。
技術概要
この技術では、極細管内壁面へのコーティング方法は、真空空間内に、極細管を配置し、極細管内に、極細管の軸心に沿ってスパッタターゲットを配置した状態で、極細管とスパッタターゲットとの間に、スパッタターゲット側を負側とする電圧を印加し、スパッタターゲット側に繰り返し負電圧パルスバイアスを印加し、極細管の内壁面と、スパッタターゲットとの間のギャップ内に、プラズマソースガスを導入するとともに、マイクロ波導入と磁場印加により、ωce/ω=0.5(1)ここで、ωceは、電子のサイクロトロン周波数ωは、マイクロ波周波数の条件下でのプラズマ生成を行って、極細管の内壁面にスパッタターゲット材をスパッタリングして極細管内にコーティングを施す。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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