水素吸蔵・放出制御法

開放特許情報番号
L2011003786
開放特許情報登録日
2011/8/12
最新更新日
2015/11/3

基本情報

出願番号 特願2005-044833
出願日 2005/2/21
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2006-225243
公開日 2006/8/31
登録番号 特許第4223014号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 水素吸蔵・放出制御法
技術分野 機械・加工
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 水素吸蔵・放出制御法、水素吸蔵材料
目的 比較的低い圧力領域かつ室温付近での水素の速やかな吸蔵・放出を可能にする水素吸蔵・放出制御法の提供。
効果 温度や圧力による制御が難しかった比較的低い圧力・温度領域において、水素の速やかな吸蔵・放出が実現され、水素吸蔵・放出制御が可能となる。さらに、表面反応を活性にするために行われていたパラジウムメッキ等の処理が省略可能となる。
技術概要
 
この技術では、少なくとも表面にリチウム層を有する水素吸蔵材料に水素を吸蔵させる際に、リチウムの表面格子振動における特性振動数の振動を加えることを特徴とする水素吸蔵制御法を提供する。また、少なくとも表面にリチウム層を有する水素吸蔵材料に吸蔵された水素を放出させる際に、リチウムの表面格子振動における特性振動数の振動を加えることを特徴とする水素放出制御法を提供する。これらの制御法において、各々、特性振動数4.6×10↑(13)Hzの振動を加えることが好ましい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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