エマルションの製造装置

開放特許情報番号
L2011003759
開放特許情報登録日
2011/8/12
最新更新日
2015/10/30

基本情報

出願番号 特願2004-209334
出願日 2004/7/16
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2004-351417
公開日 2004/12/16
登録番号 特許第3860186号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 エマルションの製造装置
技術分野 機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 エマルション、マイクロスフィア
目的 簡便に、しかも迅速にエマルションを生成させることができるエマルションの製造装置の提供。
効果 簡便に、しかも迅速にエマルションを生成させることができる。更に、エマルションを生成させ、所定の方向に案内し、また、その生成速度を変化させることができる。
技術概要
この技術では、エマルションの製造装置は、平行電極を持つ基板と、この基板上に形成されるマイクロチャンネルとを備え、マイクロチャンネルの上流側の分散相を平行電極に印加される移動電界により吸引・排出してエマルションを生成させるものとする。また、連続相側の平行電極の配置を変えることにより、生成されたエマルションを所定の方向に案内可能にする。平行電極に印加する移動電界の移動速度を変えることにより、エマルションの生成速度を変化可能にする。さらに、分散相の液槽下部に、複数のマイクロチャンネルが形成された剛体部材に挟着される弾性部材と、この弾性部材に応力を印加するアクチュエータと、複数のマイクロチャンネルが連通する連続相を具備するものとする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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