マイクロカプセルの製造方法およびその装置

開放特許情報番号
L2011003758
開放特許情報登録日
2011/8/12
最新更新日
2015/10/30

基本情報

出願番号 特願2004-209330
出願日 2004/7/16
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2004-290977
公開日 2004/10/21
登録番号 特許第4176683号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 マイクロカプセルの製造方法およびその装置
技術分野 機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 マイクロカプセル
目的 2段階に作用させた分散相にさらに連続相を作用させて、簡便に、しかも迅速にマイクロカプセルを生成させることができるマイクロカプセルの製造方法およびその装置の提供。
効果 2段階に作用させた分散相にさらに連続相を作用させて、簡便に、しかも迅速にマイクロカプセルを生成させることができる。
技術概要
この技術では、マイクロカプセルの製造方法において、マイクロチャンネル中を流れる連続相に対し、マイクロチャンネルに交差する向きに、殻となる相が流れる供給チャンネル及び内部に内包される相が流れる供給チャンネルを配置し、殻となる相および内部に内包される相を、連続相の流れに交差する向きで供給するようにし、殻となる相を供給チャンネルからマイクロチャンネルの底部に這うように上流側から薄い層をなすように供給し、内部に内包される相を供給チャンネルから殻となる相の薄い層中に送り込み、マイクロカプセルを得るものとする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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