ヘリウム循環装置用多層精製器および精製方法

開放特許情報番号
L2011003668
開放特許情報登録日
2011/8/5
最新更新日
2015/10/2

基本情報

出願番号 特願2003-175975
出願日 2003/6/20
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2005-009800
公開日 2005/1/13
登録番号 特許第3686066号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 ヘリウム循環装置用多層精製器および精製方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 ヘリウム循環装置用多層精製器
目的 精製器内において、ヘリウムガスの流路をできるだけ長くとり、その流路内においてガス中の汚染物質を確実に除去できるヘリウム循環装置用多層精製器を提供する。
効果 ヘリウムガスは第1精製手段の汚染物質固化部で精製された後、第2精製手段の中心側の層から順次外側の層に流れながら各層に形成した汚染物質固化部で精製されるように構成したため、流速の遅くなった気体が精製器の壁面に衝突する期待値が高くなり、汚染物質を効率的に除去できる。また汚染物質固化部を半月板の邪魔板を交互に多層に並べ、その後、メッシュの邪魔板を交互に配置することにより汚染物質の除去率を大きくできる。
技術概要
ヘリウム循環装置用多層精製器であって、精製器は高温(約300K)ヘリウムガスを熱伝導率の悪いステンレスのパイプ等で徐々に冷却しながら、汚染物質が固化する温度以上で導入し同ガスをさらに徐々に冷却するための精製器本体と、精製器本体内に配置され窒素、酸素等の汚染物質を固化(氷結)する汚染物質固化部とを備え、汚染物質固化部は本体中心部に形成した第1精製手段7と、第1精製手段を中心とした外周に多層に配置された第2精製手段21とからなり、高温ヘリウムガスは固化容量の大きな第1精製手段の汚染物質固化部で概略精製された後、第2精製手段の中心側の層から順次外側の層に流れながら各層に形成した汚染物質固化部にヘリウムガスが衝突する機会を増やすことによってさらに高純度に精製されるように構成する。第1精製手段に配置する汚染物質固化部は、流れの上流側には半月状の板を所定の間隔をもって配置し、その下流には、メッシュ状の板を所定の間隔を持って配置する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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