ヒドロキシケトン化合物の製造方法

開放特許情報番号
L2011003646
開放特許情報登録日
2011/8/5
最新更新日
2015/10/29

基本情報

出願番号 特願2003-054697
出願日 2003/2/28
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2004-262826
公開日 2004/9/24
登録番号 特許第3883972号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 ヒドロキシケトン化合物の製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 ヒドロキシケトン化合物
目的 金属を含有しない触媒を用いグリーンケミストリーの観点からも優れ、反応に使用する原料、触媒や溶媒の脱水処理を不要として、カルボニル基質から、それが、例えば、ホルムアルデヒド等の水溶性あるいは水と容易に水和物を形成するものであっても、直接的にヒドロキシケトン化合物を製造することができ、しかも、溶媒として水を用いても、ジアステレオ選択的、エナンチオ選択的に高収率で、過酷な条件を必要とせず効率よく生成物を得ることができるヒドロキシケトン化合物の製造方法や、これに用いる触媒を提供する。
効果 ヒドロキシケトン化合物を、金属を含有しない触媒を用いて環境破壊を抑制し、反応系の脱水処理を不要として、従来の方法では反応が起こり得なかったメチルイソプロピルケトンや、アセトフェノンのケトン等のカルボニル基質から、それが、例えば、ホルムアルデヒド等の水溶性であっても、直接的にヒドロキシケトン化合物を製造することができ、しかも、溶媒として水を用いても、ジアステレオ選択的、エナンチオ選択的に高収率で、過酷な条件を必要とせず効率よく生成物を得ることができる。
技術概要
式I(図1)(式I中、Zは、未置換又は置換基を有する5員環を表す。)で示されるテトラゾール誘導体を含有する触媒を用い、二つのカルボニル基質を結合させる、ドロキシケトン化合物の製造方法である。また、テトラゾール誘導体が、式II(図2)で示される化合物である、ヒドロキシケトン化合物の製造方法である。また、少なくとも一つのカルボニル基質が、式III(図3)(式中、R↑1、R↑2は、独立して水素原子、又は、未置換若しくは置換基を有するアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基若しくはアリール基を表し、相互に結合して環を形成していてもよい。)で示される化合物である、ヒドロキシケトン化合物の製造方法である。また、一つのカルボニル基質が、式IV(図4)(式中、R↑3は水素原子、アルキル基、アルケニル基又はアリール基を表し、R↑4はパーハロゲノアルキル基を表す。)で示される化合物である、ヒドロキシケトン化合物の製造方法である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【改善】
改善効果1 特に、得られたγ−トリハロゲノ−β−ヒドロキシケトン化合物はα−ヒドロキシカルボン酸やα−アミノ酸の合成等価体であり、種々の生理活性物質等の中間体となるβ−ヒドロキシケトン化合物を直接的に、ジアステレオ選択的、エナンチオ選択的に高収率で得ることができるため、生理活性を有する化合物、医薬、液晶材料等の合成へ直結させることができる。
アピール内容 当ライセンス情報は、独立行政法人科学技術振興機構の『研究成果展開総合データベース(J−STORE)』に掲載中の情報をもとに作成したものです。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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