2次元フォトニック結晶面発光レーザ及びその製造方法

開放特許情報番号
L2011003571
開放特許情報登録日
2011/8/5
最新更新日
2015/10/29

基本情報

出願番号 特願2002-071086
出願日 2002/3/14
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2003-273455
公開日 2003/9/26
登録番号 特許第3833953号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 2次元フォトニック結晶面発光レーザ及びその製造方法
技術分野 電気・電子、情報・通信
機能 材料・素材の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 簡便な操作で得られ、並列光ピックアップ、並列光伝送、光並列情報処理の分野等で広く利用される。
目的 面発光される光の利用効率を50%以上に高めることのできる2次元フォトニック結晶面発光レーザ及びその製造方法を提供する。
効果 2次元フォトニック結晶面発光レーザは、フォトニック結晶周期構造体を構成する三角形状体をフォトリソグラフィ法で多段に加工した際、マストランスポート効果によって段差部を消滅させて傾斜面を形成することにより製造することができる。
技術概要
キャリアの注入により発光する活性層13をクラッド層12、14で挟み込み、クラッド層又は活性層に2次元的に屈折率周期を配置したフォトニック結晶周期構造体21a〜21gを備えた2次元フォトニック結晶面発光レーザ10において、フォトニック結晶周期構造体の結晶面に対する断面形状の幅が主たる発光方向に沿って漸減している、2次元フォトニック結晶面発光レーザである。尚、2次元フォトニック結晶面発光レーザの製造方法であって、フォトニック結晶周期構造体を結晶面に対する垂直方向の断面形状を段差を有するほぼ三角形状にフォトリソグラフィ法で加工した際、マストランスポート効果によって段差部を消滅させて傾斜面を形成することにより、2次元フォトニック結晶面発光レーザを製造する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

登録者名称 国立研究開発法人科学技術振興機構

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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