オクタフルオロプロパンの製造方法及びその用途

開放特許情報番号
L2011003229
開放特許情報登録日
2011/7/15
最新更新日
2011/7/15

基本情報

出願番号 特願2000-260205
出願日 2000/8/30
出願人 昭和電工株式会社
公開番号 特開2002-069014
公開日 2002/3/8
登録番号 特許第4539793号
特許権者 昭和電工株式会社
発明の名称 オクタフルオロプロパンの製造方法及びその用途
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 半導体デバイス製造プロセスにおけるドライエッチングガス、クリーニングガスとして有用なオクタフルオロプロパンに適用する。
目的 特定の温度条件下で原料ガスを気相反応させるオクタフルオロプロパンの製造方法を提供する。
効果 塩素系不純物を含む原料ガスを用いても高純度のオクタフルオロプロパンが製造できる。
技術概要
 
(1)クロムの酸化物を主成分とし、この酸化物にインジウムを添加してなる塊状フッ素化触媒の存在下、ヘキサフルオロプロペンとフッ化水素とを、気相において、150〜450℃の温度で反応させて2H−ヘプタフルオロプロパンを得、次いで、(2)得られる2H−ヘプタフルオロプロパンとフッ素ガスとを、無触媒下、気相において、250〜500℃の温度で反応させて目的物を得るオクタフルオロプロパンの製造方法にする。原料ガスであるヘキサフルオロプロペンとしては、ジクロロジフルオロメタン、クロロジフルオロメタン、クロロペンタフルオロエタン等が用いられ、また、工程(1)において、フッ化水素/ヘキサフルオロプロペンのモル比を0.8〜3とし、工程(2)において、2H−ヘプタフルオロプロパン中に含まれるクロロジフルオロメタン、クロロペンタフルオロエタン等の不純物を、例えば蒸留等の方法により0.01vol%以下まで除去して行うのが好ましい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 昭和電工株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【有】   
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