ペンタフルオロエタンの製造方法およびその用途

開放特許情報番号
L2011003180
開放特許情報登録日
2011/7/15
最新更新日
2011/7/15

基本情報

出願番号 特願2003-206761
出願日 2003/8/8
出願人 昭和電工株式会社
公開番号 特開2005-053805
公開日 2005/3/3
登録番号 特許第4458784号
特許権者 昭和電工株式会社
発明の名称 ペンタフルオロエタンの製造方法およびその用途
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 ペンタフルオロエタン、ペンタフルオロエタンの製造方法、低温用冷媒、エッチングガス、ヘキサフルオロエタン製造用原料
目的 ペンタフルオロエタンは、低温用冷媒、エッチングガス、またヘキサフルオロエタン製造用原料として用いられる。ペンタフルオロエタンの製造においては、ペンタフルオロエタン中に、クロロフルオロカーボン類、ハイドロクロロフルオロカーボン類、ハイドロフルオロカーボン類等の不純物が含まれ、純度の高いペンタフルオロエタンを得るためには、これら不純物を除去する必要があるが、分離が困難であり、また、設備費が膨大になるという問題があった。そこで、高純度のペンタフルオロエタンを工業的に有利に製造する方法を提供する。
効果 この方法を用いれば、高純度のペンタフルオロエタンを得ることができ、得られたペンタフルオロエタンは低温用冷媒やエッチングガスとして用いられ、また、高純度ヘキサフルオロエタンの製造用原料として用いることができる。
技術概要
ペンタフルオロエタンを製造する方法において、テトラクロロエチレンまたはそのフッ素化物をフッ化水素を用いてフッ素化するフッ素化反応を行うことにより得られ、フルオロメタン、ジフルオロメタン、フルオロエタン、1,1−ジフルオロエタン、1,2−ジフルオロエタン、1,1,1−トリフルオロエタンおよび1,1,2−トリフルオロエタンから選ばれる化合物を不純物として含む粗ペンタフルオロエタンと、酸素ガス、空気、O↓3、N↓2O、NOおよびNO↓2から選ばれるガスとを、3価の酸化クロムを含む坦持型または塊状型の触媒またはパラジウム、ロジウム、ルテニウム、レニウム、白金および金から選ばれる金属を主成分とする坦持型触媒の存在下に接触させる工程を含み、この工程におけるペンタフルオロエタンと酸素ガス、空気、O↓3、N↓2O、NOおよびNO↓2から選ばれるガスとを含む反応基質ガス中に含まれる水分を2vol%以下とするペンタフルオロエタンの製造方法である。この方法によるペンタフルオロエタンを原料として用いて得た高純度のヘキサフルオロエタンの分析結果の一例を表に示したが、ヘキサフルオロエタン中には他の不純物はほとんど含まれていない。
実施実績 【有】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 昭和電工株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【有】   
Copyright © 2017 INPIT