レーザー駆動陽子線を用いる薄層放射化装置

開放特許情報番号
L2011002996
開放特許情報登録日
2011/7/1
最新更新日
2011/7/1

基本情報

出願番号 特願2009-179743
出願日 2009/7/31
出願人 独立行政法人 日本原子力研究開発機構
公開番号 特開2011-033468
公開日 2011/2/17
発明の名称 レーザー駆動陽子線を用いる薄層放射化装置
技術分野 機械・加工、電気・電子、情報・通信
機能 検査・検出、機械・部品の製造、その他
適用製品 薄層放射化装置
目的 この発明は、レーザー駆動陽子線を利用する小型の薄層放射化装置を提供する。
効果 この発明の薄層放射化装置は、高強度レーザー発生装置を用いるレーザー駆動陽子線を利用するので、レーザー発生装置を含む陽子線発生部の平面の大きさを4m×5m程度(レーザー発生装置を含まない大きさは50cm×50cm程度)、500kg以下と小型化することができる。
技術概要
薄層放射化とは、表面層から200μm程度の深さまで放射化、すなわち放射性同位元素を生成する方法で、薄層放射化は、機械部品の摩耗速度の測定に利用されている。従来の薄層放射化は、サイクロトロン加速器を用いて生成させた荷電粒子線を用いている。しかし、この方法では、装置が大型化し、高価な装置を必要とする難点があった。この発明の薄層放射化装置は、高強度レーザー発生装置2と真空容器3とから構成されておりレーザー駆動陽子線を発生させる陽子線発生部10、陽子線を放射化対象5に衝突させて薄層放射化する放射化部20、を具備するレーザー駆動陽子線を用いる薄層放射化装置。高強度レーザー発生装置2は、10↑1↑7W/cm↑2〜10↑2↑2W/cm↑2のレーザー強度を有する高強度レーザー光を発生させる。真空容器3は、高強度レーザー光を導入するレーザー光導入部31と、高強度レーザー光を集光する集光ミラー11と、集光ミラー11によって収束されるレーザー光が衝突するターゲット12と、ターゲット12から発散する陽子線の軌道上に設けられたデブリシールド13と、レーザー駆動陽子線17を大気中に取り出すための取り出し窓33と、を具備するものである。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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