レーザー装置及びレーザー増幅方法

開放特許情報番号
L2011002984
開放特許情報登録日
2011/7/1
最新更新日
2017/3/22

基本情報

出願番号 特願2009-133173
出願日 2009/6/2
出願人 独立行政法人日本原子力研究開発機構
公開番号 特開2010-281891
公開日 2010/12/16
登録番号 特許第5376652号
特許権者 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
発明の名称 レーザー装置及びレーザー増幅方法
技術分野 電気・電子、情報・通信、その他
機能 加熱・冷却、検査・検出、その他
適用製品 レーザー装置
目的 この発明は、パルスレーザー光におけるパルスの伸張・圧縮を行う構成を単純化したレーザー装置を提供する。
効果 この発明によれば、パルスレーザー光におけるパルスの伸張・圧縮を行うレーザー装置の構成を単純化することができる。
技術概要
レーザー光は、計測や加工等、様々な分野で用いられており、特に、短パルスレーザーは、様々な分野で使用されている。その短パルスレーザー光のピーク強度を極めて高くする方法としてCPA法が用いられている。しかし、超短パルスレーザーを発振するレーザー装置の構成は、従来のCO2レーザー、YAGレーザー等と比べて複雑で、高価となっていた。この発明のレーザー装置は、パルスレーザー光をパルス伸張・圧縮器12に入射し、パルス伸張・圧縮器12通過後には、正にチャープされた状態となる。このレーザー光は、OPA13に入射する。OPA13は、入射光と共にポンプ光を入射させることによってポンプ光のエネルギーをシグナル光に移行させ、増幅されたシグナル光と、アイドラー光とを出力する。アイドラー光は、シグナル光とは逆に、負にチャープされた状態となっている。このアイドラー光は、前記と同一のパルス伸張・圧縮器12に入射する。従って、このアイドラー光がパルス伸張・圧縮器12を通過後の波形は正にチャープされ、長波長側でのパルスの遅延が補償される。このパルスレーザー光を出力として取り出せば、高出力の超短パルスレーザーを得ることができる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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