電解リン酸塩化成処理方法

開放特許情報番号
L2011002970
開放特許情報登録日
2011/7/1
最新更新日
2011/7/1

基本情報

出願番号 特願2002-020568
出願日 2002/1/29
出願人 株式会社デンソー
公開番号 特開2002-322593
公開日 2002/11/8
登録番号 特許第4019723号
特許権者 株式会社デンソー
発明の名称 電解リン酸塩化成処理方法
技術分野 金属材料、無機材料、電気・電子
機能 材料・素材の製造、表面処理、機械・部品の製造
適用製品 電解リン酸塩化成処理方法、金属の表面処理、リン酸塩化成被膜、塗装下地処理
目的 リン酸イオン、硝酸イオン、リン酸イオンと浴中で錯体を形成する金属イオン等を含むリン酸塩化成処理浴を用い、浴中、皮膜成分以外の金属イオンを0〜400ppmとし、かつ皮膜形成反応に影響する固形物を含有しないようにすることで、効率よく皮膜を形成しようとする方法が開示されている。この方法は、溶液相反応を確実に防止し金属表面の反応のみに限定することに関しては必ずしも充分でない。そこで、連続処理において溶液相での反応を防止し、スラッジ生成を確実に防止し、更に金属表面での反応効率を向上しうる電解リン酸塩化成処理方法を提供する。
効果 この方法により、原埋的に、処理浴のスラッジ生成を実質的にゼロとすることができる。実際の量産化設備では、処理浴内でのバラツキが存在するが、処理浴のORP(酸化還元電位)を上昇させて840mV以上に維持すれば小さなバラツキを除いて、スラッジ生成を実質的にゼロとすることができる。また、スラッジを実質的にゼロとすることで、形成する被膜は、被処理物に確実に密着して形成することが可能となる。従って、例えば、塗装下地の場合、スラッジが生じる場合よりも塗装耐食性に優れた被膜を形成することができる。
技術概要
この電解リン酸塩化成処理方法は、リン酸イオン及びリン酸と、硝酸イオンと、リン酸塩化処理浴中でリン酸イオンと錯体を形成する金属イオンと、リン酸塩化成処理浴中に溶解しているイオンが還元され、金属として析出する溶解−析出平衡電位が、溶媒である水のカソード反応分解電位である-830mV以上である金属イオンを含み、皮膜となる成分以外の金属イオンを実質的に含有しないリン酸塩化成処理浴に、導電性を有する金属材料を接触させ、この金属材料被処理物を、リン酸塩化成処理浴にて電解処理して、被処理物表面にリン酸塩化合物と金属から構成される皮膜を形成する方法において、@被処理物が鉄鋼材料であり、或は処理浴に溶解する電極がFe電極であり、A被処理物或はFe電極からの処理浴へのFe電解量を制御し;或はFeを含むリン酸錯体を含む薬品の補給量を制御し;並びに硝酸イオンが還元される過程で処理浴に生成する気体であるNO↓2、N↓2O↓4或はNOを処理浴から分離する手段を設けることにより、リン酸塩化成処理浴のORP(酸化還元電位)を770mV〜960mVに維持することからなる。図は、電解処理の概要を示す(処理浴1,電源2,電極3,被処理物4,ろ過機5,センサー槽7,制御装置8)。
実施実績 【有】   
許諾実績 【有】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 株式会社デンソー

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【有】   
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