偏光子、その製造方法及び光モジュール

開放特許情報番号
L2011002491
開放特許情報登録日
2011/5/20
最新更新日
2013/1/21

基本情報

出願番号 特願2009-187252
出願日 2009/8/12
出願人 国立大学法人宇都宮大学
公開番号 特開2010-256840
公開日 2010/11/11
登録番号 特許第5137084号
特許権者 国立大学法人宇都宮大学
発明の名称 偏光子、その製造方法及び光モジュール
技術分野 情報・通信、電気・電子、金属材料
機能 材料・素材の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 簡便な操作で得られ、光通信、光情報処理又は光センシング等の分野で広く利用される。
目的 平易な作製プロセスによりコストが大幅に削減でき、かつ広開口の偏光子を作製することが容易で、偏光分離と反射防止の両方を同時に実現できる偏光子及びその製造方法を提供する。
効果 従来のような多層構造を形成した後に切り出す方法よりも効率的に製造することができる。
技術概要
基材面に所定の角度で入射する電磁波に対して占有率が連続的に変化する単位構造を繰り返す周期構造10を有した基材2と、周期構造の全面、又は周期構造の尾根部4及び谷部5の一方若しくは両方を除く面に設けられた金属層11と、を有する偏光子1である。尚、周期構造の断面が三角波形状又は正弦波形状であり、周期構造のアスペクト比(高さ/周期)が0.5以上であり、金属層の厚さが適用する周波数における表皮深さδの1/2〜1/10である。また、基材面に所定の角度で入射する電磁波に対して占有率が連続的に変化する単位構造を繰り返す周期構造を基材面に形成する工程と、周期構造の全面に、又は周期構造の尾根部及び谷部の一方若しくは両方を除く面に金属層を形成する工程と、を有することにより、偏光子を製造する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 宇都宮大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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