ターゲットの形成方法及びその装置

開放特許情報番号
L2011002358
開放特許情報登録日
2011/5/13
最新更新日
2016/5/24

基本情報

出願番号 特願2009-057219
出願日 2009/3/10
出願人 国立大学法人福井大学
公開番号 特開2010-210445
公開日 2010/9/24
登録番号 特許第5252401号
特許権者 国立大学法人福井大学
発明の名称 ターゲットの形成方法及びその装置
技術分野 電気・電子、金属材料、その他
機能 機械・部品の製造、表面処理、その他
適用製品 放射線を照射することで少なくとも一部が放射性同位元素に変換されるターゲット形成装置。
目的 基板上に高効率でターゲットを形成することができ、かつ、肉厚も均一で高品質な仕上がり面を得ることのできるターゲットの形成方法及びその装置を提供すること。
効果 基板と電極とを固定することで、両者の距離を安定させることができる。また、基板近傍からめっき液を吸引し、基板に向けてめっき液を吐出することで、めっき液の全体的な攪拌も可能になり、基板近傍の気泡も速やかに除去することができる。本発明の方法及び装置によれば、肉厚が均一で高品質な仕上がり面を有するターゲットを形成することができ、90%以上の高い電着率で効率よくターゲットを形成することができる。
技術概要
放射線の照射により放射性同位元素に変換される性質を有する金属のめっき液14中に基板12と電極15とを挿入し、電極15と基板12との間に電圧を印加することで基板12に金属のターゲットを形成するターゲット形成方法において、電極15及び基板12をめっき液14中に固定した状態で、基板12の近傍からめっき液14を吸引する工程と基板12に向けてめっき液14を吐出す工程とを繰り返しつつ、電極15と基板12との間に電圧を印加する。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【有】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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