光脱炭酸反応を利用した重水素化化合物の製造方法

開放特許情報番号
L2011002355
開放特許情報登録日
2011/5/13
最新更新日
2012/11/28

基本情報

出願番号 特願2009-046130
出願日 2009/2/27
出願人 国立大学法人福井大学
公開番号 特開2010-195755
公開日 2010/9/9
登録番号 特許第5077895号
特許権者 国立大学法人福井大学
発明の名称 光脱炭酸反応を利用した重水素化化合物の製造方法
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 重水素化化合物、重水素標識化合物、重水素化内部標準物質、カルボン酸の重水素化方法、カルボン酸の重水素化された脱炭酸還元生成物、光脱炭酸反応を利用した重水素化化合物の製造方法
目的 重水素化が特に望まれる化合物の1つとしてカルボン酸がある。カルボン酸の重水素化方法として、カルボン酸をフェナントレン、1,4-ジシアノベンゼン、及び重水の共存下で光脱炭酸反応させる方法があるが、金属触媒を必要とせずに、カルボン酸の特定の位置だけに、高い重水素化率で重水素を導入することができるが、カルボキシル基が4-シアノフェニル基で置換された副生成物を生成し、収率が低いという問題点がある。そこで、良好な収率で、カルボン酸の重水素化された脱炭酸還元生成物を得ることができる、重水素化化合物の製造方法を提供する。
効果 この製造方法によれば、副生成物を実質的に生成することなく、カルボン酸を光脱炭酸反応させ、カルボン酸のカルボキシル基を重水素で置換し、カルボン酸の重水素化された脱炭酸還元生成物を良好な収率で得ることができ、得られる脱炭酸還元生成物は、重水素化率が高く、重水素化率は100%となし得る。また、カルボン酸の特定の位置だけに選択的に重水素を導入することができる。この方法で、簡便に、かつ安価に重水素化化合物を得ることができる。
技術概要
この重水素化化合物の製法は、カルボン酸をフェナントレン、ジシアノベンゼン、チオール、及び重水素源の共存下で光脱炭酸反応に供し、カルボン酸のカルボキシル基を重水素で置換する。ジシアノベンゼンは、好ましくは、1,4-ジシアノベンゼンで、また、ジシアノベンゼンに代え4-シアノ安息香酸エステルを、また、フェナントレンに代えてナフタレン、1,4-ジメチルナフタレン、トリフェニレン、又はクリセンを用いることができる。カルボン酸として、アミノ酸又はペプチドで、そのアミノ基がt-ブトキシカルボニル基(Boc)等で保護されたものが挙げられる。また、カルボン酸が2つ以上のカルボキシル基を有するα-アミノ酸又は誘導体で、このα-アミノ酸又は誘導体のα-カルボキシル基だけを選択的に重水素置換する方法が挙げられる。重水素源として、重水素化された、水酸基、フェノール性水酸基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基といった基を有する化合物、及び重水が挙げられる。又、チオールとして、1,1-ジメチルデカン-1-チオールが好適である。図は、Bocでアミノ基が保護されたL-ロイシン(N-Boc-L-ロイシン)をアセトニトリル中で重水で重水素化したときの反応スキームと収率を示す。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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