液晶マトリックス投影露光装置および液晶マトリックス投影露光方法

開放特許情報番号
L2011002202 この特許をより詳しくイメージできる、登録者からの説明資料をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2011/4/28
最新更新日
2011/6/3

基本情報

出願番号 特願2001-295060
出願日 2001/8/23
出願人 学校法人東京電機大学
公開番号 特開2003-068634
公開日 2003/3/7
登録番号 特許第4726173号
特許権者 学校法人東京電機大学
発明の名称 液晶マトリックス投影露光装置および液晶マトリックス投影露光方法
技術分野 機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 高精度マイクロマシン部品作成装置
目的 半導体集積回路、光エレクトロニクス素子、マイクロマシン部品等の微細パタンを半導体ウエハ等の被露光基板上に転写する装置および方法
効果 液晶マトリックス投影露光において、液晶セルの境界やセル中の不透過の部分に起因するパタンのくびれや突起をなくし、平滑な外形のパタンが形成できるようにする。また、液晶セルの大きさより小さい幅のパタンや液晶セルピッチより小さいピッチのパタンを形成できるようにする。
技術概要
液晶パネルに近接または密着させて、該液晶パネルの液晶セルの透過領域を一部のみに限定する、円形等の開口を有する開口制御板を挿入した状態で投影露光する。一度に露光される部分が離散的またはわずかにオーバーラップした点円状となるが、液晶パネルまたは被露光基板をずらして重ね露光すると平滑な外形のパタンが形成できる。また、液晶セルの大きさより小さい幅のパタンや液晶セルピッチより小さいピッチのパタンを形成できる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 東京電機大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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