液晶マトリックス投影露光装置

開放特許情報番号
L2011002201
開放特許情報登録日
2011/4/28
最新更新日
2011/7/15

基本情報

出願番号 特願2001-065738
出願日 2001/2/2
出願人 学校法人東京電機大学
公開番号 特開2002-231618
公開日 2002/8/16
登録番号 特許第4761261号
特許権者 学校法人東京電機大学
発明の名称 液晶マトリックス投影露光装置
技術分野 機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 高精度マイクロマシン部品作成装置
目的 半導体集積回路、光エレクトロニクス素子、マイクロマシン部品等の微細パタンを形成するに当り、液晶パネル上に指定した任意のパタンを被露光基板上に転写する装置を提供する。
効果 転写パタンに突起やくびれが出なくなる。縦横方向で同品質のパタンを形成できる。斜めのパタンも滑らかに連結させて形成できる。したがって、パタン精度も向上して従来より微細で精度の高いマイクロマシン等の部品がレチクルレスで容易にできる。製品価格・製作期間を大幅に低減できる。バラエティに富んだパタン形成が可能となる。コンピュータによって、設計データを液晶パネルの各セルへの制御指令に自動的に変換することもでき、間違いや欠陥を削減でき、変更や修正も極めて容易にできる。
技術概要
 
液晶パネルで指定した明暗分布を、光ファイバーテーパコンジットまたは光ファイバープレートまたは微小レンズアレイを介して液晶セルの接続境界やセル中のTFT等の不透過部が目立たない光像に変換してから投影露光する。また、前記光像に変換する際、光ファイバーテーパコンジットや光ファイバープレートを構成する光ファイバー素線中や微小レンズアレイを構成する要素レンズを露光光線が通過するうちに偏光面をランダムに回転させ、射出した露光光線が方位性を持たないようにする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 東京電機大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2017 INPIT