投影露光装置

開放特許情報番号
L2011002196 この特許をより詳しくイメージできる、登録者からの説明資料をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2011/4/28
最新更新日
2011/4/28

基本情報

出願番号 特願2004-171896
出願日 2004/5/14
出願人 学校法人東京電機大学
公開番号 特開2005-326796
公開日 2005/11/24
登録番号 特許第4572365号
特許権者 学校法人東京電機大学
発明の名称 投影露光装置
技術分野 機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 高精度露光装置
目的 被露光試料の側表面を高い生産性にて露光でき、安価量産でき、かつ、高い角度精度でパターンを形成できる投影露光装置を提供する。
効果 投影露光なので走査露光に比して一度に広い面積を露光でき、所要時間を大幅に低減できる。このため、パターンを高い生産性で露光することができる。また、ランプを光源として利用できるため、安価に被露光試料の側表面露光ができ、パターン形状のばらつきを大幅に低減できる。従来より高精度で該回転速度や回転角度を計測できるようになる。全周の支持力を一様にすることができ、回転に同期した微振動の発生や回転軸を使用する機械の共振が少なくなり、振動音の発生が少なくなる。
技術概要
原図基板上のパターンを被露光試料の側表面に投影露光する投影光学系と、被露光試料を中心軸回りに回転する回転ステージと、被露光試料を回転ステージの回転軸と垂直の方向に移動し回転ステージの回転軸に対する該被露光試料の中心軸位置を調整する偏芯補正ステージを設ける。また、場合によっては、被露光試料の側表面の露光すべき位置を投影光学系の光軸に垂直な方向に向ける傾斜ステージを設ける。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 東京電機大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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