露光方法

開放特許情報番号
L2011002195
開放特許情報登録日
2011/4/28
最新更新日
2011/4/28

基本情報

出願番号 特願2004-174807
出願日 2004/5/18
出願人 学校法人東京電機大学
公開番号 特開2005-331893
公開日 2005/12/2
登録番号 特許第4521539号
特許権者 学校法人東京電機大学
発明の名称 露光方法
技術分野 機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 高精度露光装置
目的 被露光試料の側表面に高い間隔精度で繰り返しパターンを形成できる露光方法を提供できるようにすることである。
効果 側面を持つ試料に繰り返しパターンを高い間隔精度で露光することができる。したがって、従来よりも高精度で該回転速度や回転角度を計測できるようになる。 また、回転軸部品の側表面に空気軸受溝を作るのに利用すると、溝の位置間隔が均一になるため、全周の支持力を一様にすることができる。したがって、回転に同期した微振動の発生や該回転軸を使用する機械の他部との共振が少なくなり、振動音の発生が少なくなる。
技術概要
 
原図基板上の繰り返しパターンを被露光試料の側表面に露光するに際し、露光する工程と、被露光試料の側表面が該繰り返しパターンの1周期に相当する距離に露光倍率を乗じた距離またはその整数倍だけ回転するように該被露光試料を回転させる工程とを、交互に繰り返す。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 東京電機大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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