超電導膜の製造方法並びに該方法により得られた仮焼成膜及び超電導膜

開放特許情報番号
L2011001981
開放特許情報登録日
2011/4/8
最新更新日
2015/6/26

基本情報

出願番号 特願2011-009535
出願日 2011/1/20
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2012-151018
公開日 2012/8/9
登録番号 特許第5729592号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 超電導膜の製造方法並びに該方法により得られる仮焼成膜及び超電導膜
技術分野 電気・電子、化学・薬品、無機材料
機能 材料・素材の製造、その他
適用製品 電力輸送、電力機器、情報機器材料、超電導膜の製造方法並びに該方法により得られる仮焼成膜及び超電導膜
目的 金属有機化合物の熱分解による超電導膜の熱処理形成において、低コストで大きい膜厚と高い配向性及び高い臨界電流を得るための製造方法を提供する。
効果 超電導膜の製造方法によれば、仮焼成工程後は、各仮焼成膜内で元素分布が均一な多層構造からなる仮焼成膜が得られるとともに、本焼成工程の後では、多数の積層欠陥が含まれるようになるので、膜厚が大きい場合でも、超電導特性が優れた配向性の高い超電導膜を、低コストで、製造効率よく、大量に生産できる。また、仮焼成工程における雰囲気に水蒸気を含ませることにより、より高い臨界電流密度を有する超電導膜を得ることができる。
技術概要
0.6〜数μm程度の膜厚の超電導膜材料の製造において、複数のRE123に対応する組成の仮焼成膜の間に、少なくとも1つのRE’123に対応する組成の仮焼成膜が介在した多層構造からなる仮焼成膜を経由することにより、大きい膜厚、高い配向性及び1cm幅あたり200Aを超える高い臨界電流をもつ、多数の積層欠陥を含む超電導膜が製造され、さらに、塗布熱分解法における仮焼成工程の一部を特定の波長と強度を持った紫外エキシマランプ光の照射処理で置き換えることにより、全工程を熱エネルギーで行った場合より大きい膜厚で高い配向性および高い臨界電流が得られる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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