レーザー誘起背面式の透明基板微細加工で使用される流動性物質

開放特許情報番号
L2011001964
開放特許情報登録日
2011/4/8
最新更新日
2015/10/1

基本情報

出願番号 特願2011-000063
出願日 2011/1/4
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2012-140303
公開日 2012/7/26
登録番号 特許第5633070号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 レーザー誘起背面式の透明基板微細加工で使用される流動性物質
技術分野 化学・薬品、機械・加工
機能 その他、表面処理
適用製品 レーザー誘起背面式の透明基板微細加工で使用される流動性物質
目的 裏面で加工が起こるのに必要なエネルギー値を低減するとともに、加工効率を上げながら未加工部分による加工精度低下を防止する。
効果 必要とするレーザービーム強度に対する加工閾値を低下させ、より低強度のレーザビームによる加工を可能にするともに、同一のレーザービームの強度を使用した場合、従来の流動性物質と比較して加工効率を増大させ、未加工部分の発生を抑制した安定した加工が実現できる。
従来の流動性物質と比較して加工効率を増大させるとともに、未加工部分の発生を抑制した安定した加工が実現できるので、ガラス等の透明材料の微細加工に広く採用されることが期待される。
技術概要
透明材料を通過したレーザービームをその裏面で集光させ、該集光点で該透明材料の裏面に接触する流動性物質がレーザービームを吸収し、該透明材料の融点付近まで温度上昇させるとともに高い圧力を発生させることにより、該透明材料の該集光点でのエッチング加工を行うレーザー誘起背面式の透明基板微細加工に使用される流動性物質として、レーザービーム吸収物質、及び該物質を高濃度に溶解して流動性物質とする溶媒に加え、それ自体、レーザービームに対する吸収特性を有していないが、レーザービーム吸収物質の発熱に伴い分解して、加工精度、加工速度を向上させる加工促進物質を添加する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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