非晶質状炭素膜の表面改質方法

開放特許情報番号
L2011001515 この特許をより詳しくイメージできる、登録者からの説明資料をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2011/3/25
最新更新日
2014/4/28

基本情報

出願番号 特願2009-050836
出願日 2009/3/4
出願人 学校法人東京電機大学
公開番号 特開2010-202466
公開日 2010/9/16
登録番号 特許第5467452号
特許権者 学校法人東京電機大学
発明の名称 非晶質状炭素膜の表面改質方法
技術分野 電気・電子、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 医療用デバイス
目的 生体適合性や化学的安定性等の優れた非晶質状炭素膜を、医療用デバイスの表面に形成する。
効果 ダイヤモンド状炭素(DLC)膜等の非晶質状炭素膜は、生体適合性や化学的安定性等の優れた特性を有する。このことから、非晶質状炭素膜を医療用デバイスの表面に形成すること等が期待されている。このとき、非晶質状炭素膜が更に高い生体適合性を得るために、カップリング剤を用いて非晶質状炭素膜の表面処理を行うことが有効である。
技術概要
 
本発明の一態様によれば、不活性ガスを用いて非晶質状炭素膜の表面をエッチング処理するステップと、エッチング処理された非晶質状炭素膜の表面を、シランカップリング剤を用いて表面処理するステップとを含む非晶質状炭素膜の表面改質方法が提供される。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

アピール内容 ○PCT出願番号:PCT/JP2009/071430 ○国際公開番号:WO2010/100806

登録者情報

登録者名称 東京電機大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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