出願番号 |
特願2007-094553 |
出願日 |
2007/3/30 |
出願人 |
国立大学法人群馬大学 |
公開番号 |
特開2008-246452 |
公開日 |
2008/10/16 |
登録番号 |
特許第4787966号 |
特許権者 |
国立大学法人群馬大学 |
発明の名称 |
含窒素廃棄物の乾式処理方法とそのための装置 |
技術分野 |
機械・加工、化学・薬品 |
機能 |
機械・部品の製造、環境・リサイクル対策 |
適用製品 |
含窒素廃棄物の乾式処理装置 |
目的 |
できるだけ低温で揮発性の窒素化合物を窒素ガスまで分解し、効率的にガスを無害化できる含窒素廃棄物の乾式処理方法とそのための装置を提供する。 |
効果 |
含窒素廃棄物の熱分解により生成したガス成分を特定の触媒に接触させて改質するので、熱分解温度が比較的低温である条件において、触媒により、揮発性の窒素化合物を窒素ガスまで分解し、効率的にガスを無害化することができる。すなわち、触媒で処理された改質ガスは、HCNがN↓2に分解されて無害化され、窒素含有液状生成物もN↓2まで分解され、さらに、NH↓3がN↓2に分解されるので悪臭も防止される。 |
技術概要
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図1は、含窒素廃棄物の乾式処理装置を概略的に示し、乾式処理装置1は、反応器2を備え、反応器2内の反応室3には、含窒素廃棄物の試料20と触媒層30が上下2段に配置される。試料20は、反応室3内における上段の試料配置部4に配置され、Ni担持炭などの触媒は、反応室3内における下段の触媒層配置部5に触媒層30として配置される。試料配置部4の高さ位置における反応器2の外周部には、試料20を加熱して熱分解するための試料加熱装置10が設けられる。また、触媒層配置部5の高さ位置における反応器2の外周部には、触媒層30を加熱するための触媒層加熱装置11が設けられる。さらに、この乾式処理装置1は、試料20の上流にある不活性ガス供給口6からAr、N2などの不活性ガスを反応室3内にキャリアガスとして供給する不活性ガス供給装置12と、反応室3内に、試料20と触媒層30との間の位置にある水蒸気供給口7から水蒸気を供給する水蒸気供給装置13とを備える。図2、図3は乾式処理後における回収物の窒素分布の分析結果を示すグラフである。 |
イメージ図 |
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実施実績 |
【無】 |
許諾実績 |
【無】 |
特許権譲渡 |
【可】
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特許権実施許諾 |
【可】
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