| 出願番号 |
特願2007-528126 |
| 出願日 |
2006/4/14 |
| 出願人 |
国立大学法人名古屋大学 |
| 公開番号 |
WO2006/112408 |
| 公開日 |
2006/10/26 |
| 登録番号 |
特許第4065962号 |
| 特許権者 |
国立大学法人東海国立大学機構 |
| 発明の名称 |
自己組織化単分子膜の作製方法とその利用 |
| 技術分野 |
金属材料 |
| 機能 |
制御・ソフトウェア |
| 適用製品 |
アルコキシシラン、ＳＡＭ形成材料 |
| 目的 |
液相法により形成されたＳＡＭに近似した性質（例えば接触角の大きさ）を示すＳＡＭを気相法で作製する方法の提供。 |
| 効果 |
本技術によれば、基材表面に高品質のＳＡＭを、化学蒸着（気相法）によって作製することができる。また、ここに開示される方法により作製されるＳＡＭまたはここに開示される膜材料を構成するＳＡＭは、高密度（高被覆率）であることから、良好な撥水性、親水性、潤滑性等を示すものであり得る。 |
技術概要
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この技術の基材にＳＡＭ形成材料を化学蒸着することによって基材上にＳＡＭ（自己組織化単分子膜）を作製する方法では、化学蒸着の際に、（１）．雰囲気ガスの湿度（２５℃における相対湿度）を３０％以下とする。また、（２）．雰囲気温度を６０℃以上とする。さらに、（３）．蒸着を開始する時点における基材の表面温度を室温よりも高くする。（１）〜（３）をいずれも満たすように化学蒸着（典型的には熱ＣＶＤ）を行うことによって、より品質の良い（例えば、より高密度の）ＳＡＭが形成され得る。例えば、同種のＳＡＭ形成材料を用いて液相法により形成されたＳＡＭと比較して、液相法ＳＡＭにより近い性質（例えば接触角の大きさ）を示すＳＡＭを作製することができる。この雰囲気ガス湿度が（１）〜（３）の範囲よりも多すぎると得られるＳＡＭの密度が低くなりがちとなり、予想した性質を示すＳＡＭが得られにくくなる。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
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| 特許権実施許諾 |
【可】
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