光干渉断層装置

開放特許情報番号
L2011001048
開放特許情報登録日
2011/2/25
最新更新日
2011/2/25

基本情報

出願番号 特願2006-531262
出願日 2005/4/6
出願人 国立大学法人名古屋大学
公開番号 WO2006/022045
公開日 2006/3/2
登録番号 特許第4501007号
特許権者 国立大学法人名古屋大学
発明の名称 光干渉断層装置
技術分野 電気・電子、生活・文化
機能 検査・検出、安全・福祉対策
適用製品 網膜、気管、消化管、断層像
目的 被検査物を検査して得られた「位置−層厚」の関係をグラフ化するに際し、被検査物のどの部位で層厚が厚く(又は薄く)なっているかを容易に把握することができる技術の提供。
効果 本技術は、網膜、気管、消化管等を構成する1又は複数の層の層厚を非破壊的に計測する計測装置(例えば、光干渉断層装置(Optical Coherence Tomography:OCT))を提供することができる。
技術概要
本技術を適用した光干渉断層装置は、1又は複数の層から構成される被検査物に光を照射し、被検査物の各層で反射される反射光と基準光とを干渉させ、その干渉光の強度を検出することで、被検査物の深さ方向の1次元断層情報を取得する光干渉断層計を備える。従って、この光干渉断層計によって照射される光を、被検査物上でライン状に走査し、あるいは、面状に走査することで(例えば、ライン状の走査を繰返して面状に走査することで)、被検査物の2次元又は3次元断層情報を取得することができる。この光干渉断層装置は、(1)被検査物の2次元又は3次元断層情報に基づいて、被検査物を構成する少なくとも1つの層について、被検査物上に設定された設定ライン上の各位置における層厚を算出し、(2)設定ライン上の位置を表す軸線を設定ラインの形状と相似する形状で表示すると共に、算出された層厚を前記軸線からその法線方向に所定のスケールでプロットした「位置−層厚」の関係を示すグラフを出力する演算装置(例えば、プロセッサ,コンピュータ等)をさらに備える。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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