光接着方法、及びマイクロチップの作製方法

開放特許情報番号
L2011001032
開放特許情報登録日
2011/2/25
最新更新日
2011/2/25

基本情報

出願番号 特願2003-126359
出願日 2003/5/1
出願人 国立大学法人名古屋大学
公開番号 特開2004-331731
公開日 2004/11/25
登録番号 特許第3985043号
特許権者 国立大学法人名古屋大学
発明の名称 光接着方法、及びマイクロチップの作製方法
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造、接着・剥離
適用製品 分析装置、医療用診断装置、エキシマランプ
目的 マイクロ化学/生化学分析チップ作製のための要素技術として使用することができる、光接着方法及びそれを用いたマイクロチップの作製方法において、マイクロチップなどの微細な部品を簡易かつ高精度に作製することができる新規な技術の提供。
効果 この技術によれば、シリコーンゴム自体の化学的な変質を利用しているので、シリコーンゴムの表面の活性及び不活性などに起因した濡れ性や、エポキシ系接着剤などの使用する際の部品の大小及び技術的な熟練を必要とすることなく、微細な部品を接着することができる。したがって、マイクロ化学や生化学の分野においては、微細なマイクロチップの作製などの好適に用いることができる。
技術概要
シリコーンゴムとガラス基板とを接着して、微細なマイクロチップを作成する、この技術の方法はガラス基板とシリコーンゴムとを接着する工程と、ガラス基板側から真空紫外光を照射して、シリコーンゴムの、少なくともガラス基板と接触する側に光酸化反応を生ぜしめて酸化層を形成し、この酸化層を介してガラス基板とシリコーンゴムとを固着する工程と、を具える。そして、この光接着方法では、ガラス基板とシリコーンゴムとを密着させ、ガラス基板側から波長200nm以下の真空紫外光を照射することが好ましい。真空紫外光を照射するための光源としては、エキシマランプ、F2エキシマレーザ、低圧水銀ランプ及びシンクロトロン放射光を例示することができる。また、真空紫外光の強度についても、光酸化反応を生ぜしめて酸化層を形成し、ガラス基板とシリコーンゴムとの接着を行うことができれば特に限定されるものではないが、好ましくは1mW/cm↑2以上に設定する。さらに、酸化層の厚さについても特に限定されるものではないが、好ましくは0.2nm〜10nmに設定する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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