出願番号 |
特願2007-018537 |
出願日 |
2007/1/29 |
出願人 |
国立大学法人 筑波大学 |
公開番号 |
特開2008-184520 |
公開日 |
2008/8/14 |
登録番号 |
特許第4487079号 |
特許権者 |
国立大学法人 筑波大学 |
発明の名称 |
光学活性ポリアニリンとその電解合成方法並びに光学活性エレクトロクロミック材 |
技術分野 |
有機材料、電気・電子 |
機能 |
材料・素材の製造 |
適用製品 |
光学活性ポリアニリン、光学活性ポリアニリンの電解合成方法、光学活性導電性高分子、光学活性エレクトロクロミック材、エレクトロクロミック装置、有機光変調素子 |
目的 |
キラルオプティカル性を有するポリアニリンはエレクトロクロミック(EC)材への応用が注目されるが、光学活性の制御が実現されていない。しかも、ポリアニリンの電気化学的重合反応は、その操作の簡便性・合理性から注目されるが、従来のポリアニリンの電解合成では、核となるオリゴマーが必要で、ポリアニリンモノマーを直接用いることが難しかった。そこで、オリゴマーを必要とせずに、アニリンモノマーを出発物質として、光学活性の制御を可能とする、光学活性ポリアニリンの電解合成方法を提供し、これを用いたEC材を提供する。 |
効果 |
従来のようにオリゴマーを必要とすることなく、アニリンモノマーを出発物質として光学活性ポリアニリンの電解合成が可能となり、光学回転角や明暗を高速で制御可能な新しい光学活性導電性高分子が提供可能となった。この光学活性ポリアニリンによって、光学活性を有するEC特性に基づいた新しい有機光変調素子を創出できる。 |
技術概要
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この光学活性ポリアニリンの電解合成方法は、アニリンモノマーを原料として、酸化と還元を連続的に行う反復酸化的な電解重合を光学活性分子のカンファースルホン酸(CSA)の存在下において行うことで光学活性分子ドープポリアニリン薄膜を製造する。好ましくは、サイクリック・ボルタンメトリーを用い、酸(好ましくは硫酸)を存在させて、電解重合を行い、光学活性エレクトロクロミズム(EC)特性を発現するポリアニリン薄膜を製造する。この方法により合成され、レドックス過程によって光学活性が調節され、光学活性EC特性を発現する光学活性ポリアニリンの薄膜がその構成の少なくとも一部とされているEC材であって、外部電場による光学回転角の制御が可能とされている光学活性EC材、及び、EC材が用いられているエレクトロクロミック装置が提供される。図は、サイクリック・ボルタンメトリーによる電解重合のための装置構成を示す概要図、及び、(+)−CSA(実線)並びに(−)−CSA(点線)存在下におけるアニリンの電気化学的重合過程の途中で生じた465nmでのCD強度変化(初回〜5回目スキャンに至るまでの主鎖のπ−π↑*遷移吸収帯に対応)を示した図である。 |
イメージ図 |
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実施実績 |
【無】 |
許諾実績 |
【無】 |
特許権譲渡 |
【否】
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特許権実施許諾 |
【可】
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