放射性同位元素の製造方法及び装置

開放特許情報番号
L2011000897
開放特許情報登録日
2011/2/18
最新更新日
2017/3/22

基本情報

出願番号 特願2010-008605
出願日 2010/1/18
出願人 独立行政法人 日本原子力研究開発機構
公開番号 特開2010-223941
公開日 2010/10/7
登録番号 特許第5522565号
特許権者 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
発明の名称 放射性同位元素の製造方法及び装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造
適用製品 放射性同位元素の製造装置
目的 濃縮↑2↑3↑5Uを使用せず、原子炉施設を利用せず、放射性廃棄物を多量に発生させることなく、効率よく廉価にかつ簡便に放射性同位元素の安定供給を実現できる方法及び装置を提供する。
効果 固体又は液体の原料ターゲットに加速器からの高速中性子を照射し、(n、np)反応、(n、n’)反応によりRIを製造させるので、濃縮↑2↑3↑5Uを使用せず、原子炉施設を利用せず、高強度の半減期の長い放射性廃棄物の発生を低減させて効率良く廉価に放射性同位元素(RI)を安定供給することが可能となる。また、RIの製造装置は、核燃料物質の規制を受ける必要がなく、小型化できるため、病院等の施設において簡便に利用できる。
技術概要
固体又は液体の原料ターゲットに加速器からの高速中性子を照射し、1個の中性子の照射により1個の中性子と1個の陽子を放出する(n、np)反応を起させ、放射性同位元素を生成させる放射性同位元素の製造方法である。また、原料ターゲットのターゲット核として表1(図1)の中から選ばれた1種又は複数のターゲット核を含む原料ターゲットに高速中性子を照射する放射性同位元素の製造方法である。また、原料ターゲットのターゲット核として表2(図2)の中から選ばれた1種又は複数のターゲット核を含む原料ターゲットに高速中性子を照射する放射性同位元素の製造方法である。図3に、RI製造装置を模式的に示す。図において、1は高電圧電源、2は電源ケーブル、3は加速器ターミナル、4は加速管、5は重陽子輸送ライン、6は高速中性子発生部、7は冷却管、8冷却系、9は原料ターゲット、10はターゲット支持枠あるいは試料容器、11はターゲット支持台、12は放射線遮蔽が施されたRI収容容器(ターゲット保管庫)である。図4はRIの製造手順を示すブロック図である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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